隨著電動(dòng)汽車等應(yīng)用的開展,碳化硅功率器件市場發(fā)展前景被看好。近日,2021功率半導(dǎo)體與車用LED技術(shù)創(chuàng)新應(yīng)用論壇在上海舉行。本屆論壇由半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)和勵(lì)展博覽集團(tuán)共同主辦,并得到第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的指導(dǎo)。
![陳海龍1](http://m.jycsgw.cn/file/upload/202104/28/140715441.jpg)
會(huì)上,吉永商事株式會(huì)社社長陳海龍帶來了“量產(chǎn)型SiC功率器件背面工藝技術(shù)提案”的主題報(bào)告,詳細(xì)分享了具有實(shí)踐意義的背面減薄技術(shù)提案與激光退火技術(shù)提案。
他表示,功率器件是電力電子的“CPU”,是特高壓電網(wǎng)、高速列車、新能源汽車充電樁及工業(yè)變頻器和伺服器的核心芯片,也是各系統(tǒng)電源模塊的關(guān)鍵器件。預(yù)計(jì)功率SiC市場2019年-2025年實(shí)現(xiàn)30%的年平均增長率,2025年將達(dá)到25億美金 的市場份額。
同時(shí),隨著電動(dòng)汽車的高增長,也將引爆碳化硅功率器件市場。數(shù)據(jù)顯示,新能源汽車市場,2025年將超過15億美金,實(shí)現(xiàn)年平均增長率38%。EV充電基建市場,2025年將超過2.25億美金。CREE預(yù)測2024年,碳化硅襯底市場將有11億美金,按照每片1000美金來計(jì)算,相當(dāng)于110萬片的市場規(guī)模。
同時(shí),隨著電動(dòng)汽車的高增長,也將引爆碳化硅功率器件市場。數(shù)據(jù)顯示,新能源汽車市場,2025年將超過15億美金,實(shí)現(xiàn)年平均增長率38%。EV充電基建市場,2025年將超過2.25億美金。CREE預(yù)測2024年,碳化硅襯底市場將有11億美金,按照每片1000美金來計(jì)算,相當(dāng)于110萬片的市場規(guī)模。
吉永商事株式會(huì)社是一家以半導(dǎo)體及光通信事業(yè)為核心經(jīng)營內(nèi)容的技術(shù)型、國際化商貿(mào)公司。總部設(shè)于日本大阪,在橫濱設(shè)有辦事處,在中國上海、北京、武漢、石家莊等地設(shè)有銷售及技術(shù)服務(wù)中心。可提供半導(dǎo)體襯底加工,光通信芯片制作,功率射頻及聲表器件制作,先進(jìn)封裝等產(chǎn)線設(shè)備及解決方案。其核心業(yè)務(wù)涉及SiC襯底加工設(shè)備、SiC器件制造設(shè)備。
在背面減薄技術(shù)提案中,SiC功率器件晶圓主要工藝中的背面工藝涉及貼膜撕膜,減薄、PVD、激光退火,電極形成等環(huán)節(jié)。
![](http://m.jycsgw.cn/file/upload/202104/28/140448711.png)
![](http://m.jycsgw.cn/file/upload/202104/28/140504921.png)
其中,減薄環(huán)節(jié)中SIC-MOSFET的導(dǎo)通阻抗低,導(dǎo)通壓降比較小,在一定程度減小了導(dǎo)通損耗;同時(shí)在大電流關(guān)斷時(shí),基本無拖尾電流,這就大大提高開關(guān)速率,關(guān)斷損耗也有所減小。將350um的SiC晶圓減薄到150um甚至更薄,能使襯底部分的電阻降低60%以上,同時(shí)降低了芯片的熱阻,增強(qiáng)器件的高溫可靠性。減薄可以降低器件導(dǎo)通電阻、優(yōu)化芯片面積、降低器件成本、減小器件功率損耗。并介紹了日本岡本 GNX200BH 設(shè)備的技術(shù)性能優(yōu)勢。
![](http://m.jycsgw.cn/file/upload/202104/28/140601161.png)
激光退火環(huán)節(jié)中,金屬與半導(dǎo)體形成的歐姆接觸是SiC器件制造的重要工序,在高溫大功率應(yīng)用時(shí),歐姆接觸的低接觸電阻和高穩(wěn)定性是決定器件性能的兩個(gè)重要因素。退火是獲得歐姆接觸的關(guān)鍵工藝手段。
![](http://m.jycsgw.cn/file/upload/202104/28/140611401.png)
與RTA相比,激光退火具有加熱時(shí)間短,效率高;加熱區(qū)僅限于局部表面,不影響周圍元件性能;能得到500nm以上深度的接觸區(qū)等優(yōu)勢。推薦的住友激光退火SWA-20US 關(guān)鍵設(shè)備具備四大優(yōu)勢:1、退火均勻性。采用Top-hat平頂光束的拼接掃描式紫外激光,聚焦光斑小,所需能量密度低,退火后表面粗糙度較小。2、工藝參數(shù)最優(yōu)化。模擬方式優(yōu)化工藝條件,調(diào)整能量密度,脈沖寬度及光斑大小等參數(shù),實(shí)現(xiàn)高穩(wěn)定性且高產(chǎn)能的生產(chǎn)制備。可達(dá)到10-6量級比電阻接觸率→參考值。3、高產(chǎn)能。產(chǎn)能可達(dá)到 >12 wph@4inch,>6wph@6inch。4、多樣性操作及監(jiān)測??蓪afer進(jìn)行分區(qū)選擇性激光退火,對光束形狀,脈沖波形等監(jiān)測。