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聚集集成電路領(lǐng)域,嘉芯半導(dǎo)體與嘉善復(fù)旦研究院達(dá)成戰(zhàn)略合作

日期:2023-08-18 閱讀:308
核心提示:據(jù)悉,日前,萬業(yè)企業(yè)旗下嘉芯半導(dǎo)體設(shè)備科技有限公司(以下簡稱嘉芯半導(dǎo)體)與嘉善復(fù)旦研究院宣布達(dá)成戰(zhàn)略合作。萬業(yè)企業(yè)官微表

據(jù)悉,日前,萬業(yè)企業(yè)旗下嘉芯半導(dǎo)體設(shè)備科技有限公司(以下簡稱“嘉芯半導(dǎo)體”)與嘉善復(fù)旦研究院宣布達(dá)成戰(zhàn)略合作。

萬業(yè)企業(yè)官微表示,根據(jù)戰(zhàn)略合作協(xié)議的內(nèi)容,雙方建立戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系,就集成電路領(lǐng)域的科研合作、產(chǎn)業(yè)合作、人才交流等方面形成長期穩(wěn)定的合作關(guān)系。
 
資料顯示,嘉芯半導(dǎo)體于2021年4月由半導(dǎo)體設(shè)備上市公司萬業(yè)企業(yè)攜手全球產(chǎn)業(yè)專家共同投資成立,總投資規(guī)模達(dá)20億元,用地面積109畝,公司研發(fā)及制造刻蝕、薄膜沉積、快速熱處理等等集成電路成熟工藝的關(guān)鍵設(shè)備,產(chǎn)品范圍覆蓋芯片制造核心設(shè)備的多個重要品類。
 
據(jù)了解,自2022年下半年開始,嘉芯半導(dǎo)體多次中標(biāo)客戶特色工藝生產(chǎn)線,包含氮化硅等離子刻蝕機(jī)、金屬等離子刻蝕機(jī)、深槽刻蝕機(jī)、側(cè)墻等離子刻蝕機(jī);高密度等離子薄膜沉積設(shè)備(HDP-CVD)、摻雜硼磷二氧化硅薄膜化學(xué)沉積設(shè)備(SACVD)、鈦/氮化鈦沉積設(shè)備(MOCVD)、鋁銅金屬濺射設(shè)備(metal Sputter(Al/Ti/TiN))、快速熱處理(RTP)設(shè)備以及雙燃燒+雙水洗尾氣處理等多類設(shè)備。
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