美國NAURA-Akrion, In美國NAURA-Akrion, Inc.首席技術官Ismail I. KASHKOUSH分享了基于碳化硅器件制造的先進化學濃度控制技術的研究成果。在傳統(tǒng)的MEMS制備中,相對惰性化合物(比如Si3N4)通常用于刻蝕停止或者制備襯底中的掩膜。然而這種材料需要了解刻蝕對于襯底的選擇性。對于過去的20年,研究發(fā)現(xiàn)碳化硅(SiC)因為其化學性質(zhì)比較惰性已經(jīng)可以作為傳統(tǒng)批量微加工刻蝕停止的替代物。包括燃料霧化器,壓力傳感器和微型模具等MEMS應用中可以使用典型
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