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北京大學(xué)尹瑞苑:氮化鎵MIS結(jié)構(gòu)界面相關(guān)陷阱態(tài):物性、表征及模型

日期:2020-12-16 來源:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:424
核心提示:北京大學(xué)尹瑞苑博士做了題為“氮化鎵MIS結(jié)構(gòu)界面相關(guān)陷阱態(tài):物性、表征及模型”的主題報告,D模式故障中的陷阱、門槽事故中的陷阱、MIS結(jié)構(gòu)建模等角度分享了最新研究成果。
 近日,由國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)與第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)主辦,南方科技大學(xué)微電子學(xué)院與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司共同承辦的第十七屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2020)暨2020國際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2020)在深圳會展中心召開。
尹瑞苑-北京大學(xué)-代替王茂俊 (6)
期間,由廣東芯聚能半導(dǎo)體有限公司,中電化合物半導(dǎo)體有限公司,英諾賽科(珠海)科技有限公司共同協(xié)辦的功率電子器件及封裝技術(shù)分會上,北京大學(xué)尹瑞苑博士做了題為“氮化鎵MIS結(jié)構(gòu)界面相關(guān)陷阱態(tài):物性、表征及模型”的主題報告,D模式故障中的陷阱、門槽事故中的陷阱、MIS結(jié)構(gòu)建模等角度分享了最新研究成果。



報告指出,界面性質(zhì)是影響MIS結(jié)構(gòu)的重要因素,可以通過AFM、XPS、TEM、EDX等手段進(jìn)行檢測。邊界陷阱可以通過低頻噪聲、交流gm、準(zhǔn)靜態(tài)電容、閾值電壓漂移測量來評估。同時考慮溝道電阻和邊界陷阱效應(yīng)的分布式網(wǎng)絡(luò)模型很好地描述了大溝道電阻MIS二極管的阻抗頻散特性。
 
(內(nèi)容根據(jù)現(xiàn)場資料整理,如有出入敬請諒解)

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