9月13-14日，“2021中國(guó)（南京）功率與射頻半導(dǎo)體技術(shù)市場(chǎng)應(yīng)用峰會(huì)（CASICON 2021）”在南京召開。本屆峰會(huì)由半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)主辦，并得到了南京大學(xué)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟的指導(dǎo)。

會(huì)上，奧趨光電CEO吳亮帶來(lái)了“AlN/AlScN材料制備技術(shù)及其在5GRFFE濾波及功率器件等領(lǐng)域應(yīng)用前景展望”的主題報(bào)告。報(bào)告結(jié)合AlN/AlScN的特性，AlN /AlScN的潛力應(yīng)用，以及AlScN 的發(fā)展歷程分享了最新進(jìn)展。

報(bào)告指出，AlScN是5G RFFE BAW/FBAR/SAW濾波器最有前途的新材料，也有希望用于其他電力電子應(yīng)用。AlN 在UV-LED等領(lǐng)域有很大的應(yīng)用潛力。并分享了AlN/AlScN 晶體生長(zhǎng)方法、PVT法制備AlN/AlScN晶體、基于 AlN 的 X 波段 HEMT（15W/mm 輸出密度）等方法。

吳亮表示奧趨光電開發(fā)了一系列專利技術(shù)，解決了大型氮化鋁生產(chǎn)中的關(guān)鍵難題，采用PVT法生產(chǎn)了世界上第一批60mm氮化鋁晶片和晶圓，并規(guī)劃世界上最大的2英寸氮化鋁單晶襯底晶圓廠。奧趨光電開發(fā)了專有技術(shù)，在其上生長(zhǎng)世界領(lǐng)先質(zhì)量的AlScN薄膜具有低成本和可擴(kuò)展性的硅/藍(lán)寶石，并在SiC襯底上與領(lǐng)先合作伙伴合作。奧趨光電正與中國(guó)幾家領(lǐng)先的無(wú)晶圓廠合作伙伴合作，以實(shí)現(xiàn)高性能FBAR/SAW滿足5G行業(yè)日益增長(zhǎng)的要求的過(guò)濾器。
 

吳亮，國(guó)際知名晶體生長(zhǎng)工藝與模擬仿真科學(xué)家，有近20年半導(dǎo)體、光伏及各種單晶生長(zhǎng)工藝研究、開發(fā)與研發(fā)領(lǐng)導(dǎo)經(jīng)驗(yàn)。曾供職于英特爾技術(shù)發(fā)展有限公司、比利時(shí)FEMAGSoft SA（高級(jí)研發(fā)工程師、駐北京首席代表等）、蘇州協(xié)鑫工業(yè)應(yīng)用研究院有限公司（副院長(zhǎng)，現(xiàn)協(xié)鑫中央研究院）、協(xié)鑫太陽(yáng)能材料有限公司（總工程師）等，現(xiàn)任奧趨光電技術(shù)（杭州）有限公司CEO。

 

吳亮博士曾承擔(dān)日本、德國(guó)、比利時(shí)等多家世界500強(qiáng)企業(yè)或政府組織在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的專業(yè)化合作研究，申請(qǐng)/授權(quán)國(guó)內(nèi)國(guó)際專利50余項(xiàng)，在德國(guó)出版晶體生長(zhǎng)專著一部，發(fā)表各種期刊/會(huì)議論文及各種國(guó)際/國(guó)內(nèi)邀請(qǐng)報(bào)告100多篇/次）。