據(jù)了解，Primo D-RIE®刻蝕設(shè)備被全球領(lǐng)先的芯片制造商用于制造存儲(chǔ)和邏輯器件?？蛻舴浅？粗卦撛O(shè)備在大規(guī)模生產(chǎn)中穩(wěn)定可靠的性能表現(xiàn)、顯著提升的生產(chǎn)率和相對(duì)較低的生產(chǎn)成本方面的優(yōu)勢(shì)。為優(yōu)化產(chǎn)量而設(shè)計(jì)，Primo D-RIE®可以配置多達(dá)三個(gè)雙反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)腔，每個(gè)反應(yīng)腔既可以獨(dú)立操作，又可以同時(shí)加工兩片晶圓。此外，該設(shè)備的突出特點(diǎn)還包括：中微公司具有獨(dú)立自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的甚高頻和低頻混合射頻去耦合反應(yīng)等離子體源、等離子體隔離環(huán)、用于控制腔體內(nèi)反應(yīng)環(huán)境的先進(jìn)工藝組件。

 

 

自2007年P(guān)rimo D-RIE®發(fā)布以來(lái)，中微公司陸續(xù)拓展了CCP刻蝕設(shè)備產(chǎn)品線，以滿足客戶日益嚴(yán)苛的技術(shù)需求。除Primo D-RIE®雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕設(shè)備以外，CCP刻蝕設(shè)備系列還包括雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕設(shè)備Primo AD-RIE®、單反應(yīng)臺(tái)刻蝕設(shè)備Primo SSC AD-RIE®、Primo HD-RIE®和刻蝕及除膠一體化的 Primo iDEA®。這些產(chǎn)品為客戶提供了全面綜合的設(shè)備解決方案，用于5納米及以下工藝的多種應(yīng)用。中微公司的刻蝕設(shè)備產(chǎn)品線還包括其他兩款電感耦合低能等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備和硅通孔（TSV）刻蝕設(shè)備。

 

中微公司等離子體刻蝕設(shè)備獨(dú)特的創(chuàng)新技術(shù)和不斷快速增長(zhǎng)的市場(chǎng)占有率鞏固了在國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體前道設(shè)備行業(yè)的領(lǐng)先地位，并推動(dòng)公司持續(xù)發(fā)展。今年到目前為止，用于3D NAND應(yīng)用的Primo HD-RIE和用于7納米及以下節(jié)點(diǎn)邏輯應(yīng)用的Primo AD-RIE-e占設(shè)備總出貨量的50%。其中，中國(guó)大陸和臺(tái)灣地區(qū)占比最高。中微公司今年前三個(gè)季度的銷售收入比去年同期增長(zhǎng)了40.4%，其中刻蝕設(shè)備的銷售增長(zhǎng)率約100%。

 

中微公司集團(tuán)副總裁兼等離子體刻蝕產(chǎn)品事業(yè)總部總經(jīng)理倪圖強(qiáng)博士將這一付運(yùn)里程碑和公司的穩(wěn)步增長(zhǎng)歸功于公司的“客戶至上”營(yíng)運(yùn)原則，他指出：“中微公司的創(chuàng)新技術(shù)和世界一流的專業(yè)技能使我們的刻蝕設(shè)備產(chǎn)品備受領(lǐng)先廠商青睞，我們?yōu)榇烁械阶院?。幫助客戶?shí)現(xiàn)他們的技術(shù)和盈利目標(biāo)激勵(lì)著中微公司從管理團(tuán)隊(duì)到基層的每一位員工，并影響著整個(gè)產(chǎn)品生命周期的每一個(gè)環(huán)節(jié)——從產(chǎn)品設(shè)計(jì)、設(shè)備方案定制到我們的專業(yè)現(xiàn)場(chǎng)工程師提供全方位的服務(wù)。我們非常感謝客戶給予中微公司和產(chǎn)品的信任，我們今天取得的里程碑離不開(kāi)客戶的長(zhǎng)期支持。”

 

注：Primo D-RIE®、Primo AD-RIE®、Primo HD-RIE®、Primo SSC AD-RIE®和Primo iDEA®是中微公司的注冊(cè)商標(biāo)。