由于在水和空氣凈化、殺菌消毒和紫外固化等領(lǐng)域有重要應(yīng)用,近年來(lái)AlGaN基深紫外(DUV)LED引起極大的關(guān)注,成為當(dāng)前國(guó)際上III族氮化物半導(dǎo)體研究的熱點(diǎn)之一。然而,由于缺乏高質(zhì)量、低成本的AlN襯底,藍(lán)寶石上異質(zhì)外延高質(zhì)量AlN模板是實(shí)現(xiàn)高性能AlGaN基DUV-LED的重要基礎(chǔ)。然而,由于存在很大的晶格和熱失配,高質(zhì)量AlN外延薄膜的制備是很大的挑戰(zhàn)。
近日,由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)、國(guó)家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)聯(lián)合主辦,北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)共同承辦的第七屆國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇暨第十八屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇(IFWS & SSLCHINA 2021)在深圳會(huì)展中心舉行。
![許福軍](http://m.jycsgw.cn/file/upload/202112/29/160926111.png)
期間,“固態(tài)紫外材料與器件技術(shù)“論壇上,北京大學(xué)物理學(xué)院副教授許福軍做了題為“高質(zhì)量AlN實(shí)現(xiàn)路徑探索及深紫外發(fā)光器件應(yīng)用”的主題報(bào)告,分享了相關(guān)研究成果。
近年來(lái),其課題組系統(tǒng)開展了藍(lán)寶石襯底上高質(zhì)量AlN外延生長(zhǎng)和缺陷控制研究,探索了AlN外延薄膜晶體質(zhì)量提升的控制路徑,取得了不少進(jìn)展,比如通過(guò)藍(lán)寶石的氮化預(yù)處理來(lái)降低AlN晶粒的傾斜,并結(jié)合生長(zhǎng)模式調(diào)控,有效減少位錯(cuò);發(fā)展了過(guò)飽和空位濃度引入方案放大位錯(cuò)攀移效應(yīng),實(shí)現(xiàn)位錯(cuò)高效彎折;基于納米圖形化藍(lán)寶石襯底(NPSS)上側(cè)向外延思路實(shí)現(xiàn)AlN位錯(cuò)密度有效降低。以上述工作為基礎(chǔ),經(jīng)過(guò)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)了AlN薄膜中位錯(cuò)密度降低近3個(gè)數(shù)量級(jí)。在此基礎(chǔ)上,進(jìn)一步開展了AlGaN基DUV-LED結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)和器件研制,并初步實(shí)現(xiàn)了峰值發(fā)光波長(zhǎng)276 nm 的高性能DUV-LED器件,在注入電流為100 mA的情況下,輸出功率達(dá)到28.8 mW。
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