據(jù)悉，德國(guó)通快集團(tuán)在不久前完成了第200臺(tái)EUV光刻機(jī)光源的發(fā)貨。

圖片來(lái)源：通快

 

 

通快集團(tuán)披露的財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)顯示，2021財(cái)年（2020年7月1日－2021年6月30日），通快在EUV業(yè)務(wù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了5.3億歐元的銷(xiāo)售額，占總銷(xiāo)售額的13.5％。通快預(yù)計(jì)，在2022財(cái)年EUV業(yè)務(wù)銷(xiāo)售額將大幅增加到6億歐元。目前，通快EUV業(yè)務(wù)領(lǐng)域已提供超過(guò)1500個(gè)工作崗位。

 

而全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商不久前也披露了最新的財(cái)報(bào)。2021年ASML全年凈銷(xiāo)售額達(dá)186．11億歐元，同比增長(zhǎng)33.1％；凈利潤(rùn)為58.83億歐元，同比增長(zhǎng)65.5％。其中，EUV光刻系統(tǒng)便貢獻(xiàn)了63億歐元的收入，較2020年增加了18億歐元（增長(zhǎng)40％）。

 

 

歷年ASML EUV光刻機(jī)出貨量

 

維科網(wǎng)·激光 制圖

 

近年來(lái)，ASML銷(xiāo)售的EUV光刻系統(tǒng)數(shù)量持續(xù)增長(zhǎng)。從2015年第一臺(tái)EUV光刻機(jī)出貨，到2021年，ASML已成功交付42套EUV光刻系統(tǒng)。ASML表示，隨著芯片制造工藝愈加先進(jìn)，預(yù)計(jì)未來(lái)邏輯芯片、DRAM都將采用EUV技術(shù)制造，未來(lái)EUV光刻機(jī)的需求仍持續(xù)增長(zhǎng)。在現(xiàn)有條件下，預(yù)計(jì)2022年將產(chǎn)出55臺(tái)EUV光刻系統(tǒng)，EUV系統(tǒng)的收入也將增長(zhǎng)25％。

 

 

EUV光刻是光刻機(jī)發(fā)展的第五代技術(shù)，也是目前最先進(jìn)的技術(shù)。前四代光刻機(jī)使用都屬于深紫外光（準(zhǔn)分子激光器產(chǎn)生UV激光束），但在摩爾定律的推動(dòng)下，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于芯片的需求已經(jīng)發(fā)展到5nm，甚至是3nm，浸入式光刻面臨更為嚴(yán)峻的鏡頭孔徑和材料挑戰(zhàn)。可將最小工藝節(jié)點(diǎn)推進(jìn)至5nm、3nm的第五代 EUV光刻機(jī)成了半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的重磅武器。

 

這套系統(tǒng)的工作過(guò)程為：錫發(fā)生器每秒發(fā)射5萬(wàn)滴錫珠，通過(guò)真空室并被激光脈沖擊中。當(dāng)激光脈沖擊中錫珠時(shí)，錫珠被電離并產(chǎn)生高強(qiáng)度的等離子體，同時(shí)發(fā)出波長(zhǎng)為13.5nm的EUV光。隨后收集器收集EUV光，并通過(guò)反射鏡將其輸送到光刻機(jī)上，對(duì)晶圓進(jìn)行雕刻。

 

 

EUV激光系統(tǒng)由大約45萬(wàn)個(gè)零件組成，重約17噸，線纜長(zhǎng)度超過(guò)7000米

 

圖片來(lái)源：通快

 

為了產(chǎn)生能使錫珠電離的激光脈沖，德國(guó)通快集團(tuán)基于其二氧化碳激光技術(shù)開(kāi)發(fā)了一套獨(dú)一無(wú)二的激光放大器，其核心組件包括高功率種子模塊、高功率放大鏈路、光束傳輸系統(tǒng)、光學(xué)平臺(tái)FFA等。在五個(gè)放大階段中，該設(shè)備可提升一個(gè)較弱的激光脈沖超過(guò)10000次，輸出的激光脈沖超過(guò)3萬(wàn)瓦的平均脈沖功率，脈沖峰值功率可以高達(dá)為幾兆瓦。

 

 

實(shí)際上，通快在光刻激光發(fā)生系統(tǒng)上的投入已超過(guò)16年。早在2005年，通快便開(kāi)始與全球領(lǐng)先的準(zhǔn)分子激光器廠商——美國(guó)Cymer公司合作，并在2013年ASML收購(gòu)Cymer公司后繼續(xù)保持合作關(guān)系。在這段時(shí)間里，通快為此專(zhuān)門(mén)成立了一個(gè)獨(dú)立的子公司——通快半導(dǎo)體制造激光系統(tǒng)公司（TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing），該子公司擁有超過(guò)500名員工，專(zhuān)門(mén)負(fù)責(zé)開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)EUV激光器。

 

2015年，ASML向通快訂購(gòu)了15臺(tái)EUV光刻工具。自那以后，EUV光刻業(yè)務(wù)成了通快發(fā)展的重心之一，2016年至今的歷年財(cái)報(bào)均強(qiáng)調(diào)EUV業(yè)務(wù)為通快集團(tuán)業(yè)務(wù)作出了重大貢獻(xiàn)。2017年，通快宣布成功收購(gòu)Access Laser 85％的股權(quán)，后者建立早期專(zhuān)注研發(fā)CO2激光器，利用在定制激光器方面的強(qiáng)大知識(shí)，于2012年成為EUV市場(chǎng)的核心供應(yīng)商。收購(gòu)?fù)瓿珊螅煅杆偌訌?qiáng)EUV相關(guān)設(shè)備研發(fā)，一舉成為ASML EUV光刻機(jī)光源的獨(dú)門(mén)供應(yīng)商。

 

憑借在 EUV 極紫外光刻方面的突出貢獻(xiàn)，通快于2020年榮獲了德國(guó)科學(xué)成就領(lǐng)域最高榮譽(yù)——德國(guó)未來(lái)獎(jiǎng)，該獎(jiǎng)項(xiàng)旨在表彰在技術(shù)、工程和生命科學(xué)領(lǐng)域取得的特殊成就。2020 年 11 月 25 日，德意志聯(lián)邦總統(tǒng)弗蘭克－瓦爾特－施泰因邁爾在柏林維爾蒂音樂(lè)廳向通快頒發(fā)了該獎(jiǎng)項(xiàng)。

 

 

通快參與研發(fā)的 EUV 光刻技術(shù)榮獲 2020 德國(guó)未來(lái)獎(jiǎng)

 

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