據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進行技術(shù)開發(fā)。

報道稱，ASML量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼，采購EUV光刻設(shè)備。EUV光刻機在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果Rapidus和ASML展開合作，有望強化供應(yīng)鏈。

出席簽約儀式的日本經(jīng)產(chǎn)相西村康稔以Rapidus為先例，表示“希望加強半導體領(lǐng)域的政府間合作”。此前，荷蘭與日本先后追隨美國的腳步，加強半導體出口管制。日本7月起將半導體制造設(shè)備等23項產(chǎn)品加入出口管制名單，荷蘭也將于本周對ASML的5nm級DUV光刻機 NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i加強出口管制。

（來源：IT之家）