AlN單晶襯底以其優(yōu)異的性能和潛在的應(yīng)用前景引起了人們的廣泛研究興趣. 物理氣相輸運(yùn)（PVT）是最適合AIN襯底制備的方法。在大尺寸SiC單晶上異質(zhì)生長(zhǎng)AlN籽晶，并在隨后的同質(zhì)生長(zhǎng)中迭代優(yōu)化AlN的晶體質(zhì)量，是制備大尺寸AlN襯底的重要技術(shù)路線(xiàn)。然而，這一大尺寸AlN單晶制備技術(shù)面臨諸多的挑戰(zhàn)，包括異質(zhì)生長(zhǎng)中SiC在A(yíng)lN生長(zhǎng)溫度下的分解對(duì)籽晶表面的刻蝕，導(dǎo)致AlN晶體質(zhì)量差和形貌粗糙，以及在大尺寸同質(zhì)生長(zhǎng)中抑制熱應(yīng)力弛豫導(dǎo)致的裂紋，以及生長(zhǎng)晶體和表面質(zhì)量控制和優(yōu)化。

近日，第九屆國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS）&第二十屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）于廈門(mén)召開(kāi)。期間，“氮化物襯底、外延生長(zhǎng)及其相關(guān)設(shè)備技術(shù)”分會(huì)上，北京大學(xué)教授于彤軍做了“大尺寸AlN單晶生長(zhǎng)研究”的主題報(bào)告，分享了SiC上AlN異質(zhì)PVT生長(zhǎng)的形貌控制和2-4英寸AlN同質(zhì)PVT生長(zhǎng)的最新研究進(jìn)展。

報(bào)告指出，研究了SiC襯底上AlN異質(zhì)PVT生長(zhǎng)的形貌控制規(guī)律，明確了SiC表面臺(tái)階是 AlN臺(tái)階式生長(zhǎng)并且取得高質(zhì)量生長(zhǎng)表面的前提條件；提出了SiC襯底上兩部生長(zhǎng)法的AlN異質(zhì)PVT方法，獲得了高質(zhì)量接近3英寸的AlN／SiC籽晶；基于A(yíng)lN籽晶的同質(zhì)生長(zhǎng)過(guò)程，通過(guò)蔓延生長(zhǎng)方式，實(shí)現(xiàn)晶體形貌和質(zhì)量的優(yōu)化，在大尺寸熱流場(chǎng)耦合控制的條件下，初步實(shí)現(xiàn)了2代4英寸AlN晶體的生長(zhǎng)。

報(bào)告中于教授詳細(xì)介紹了研究進(jìn)展與結(jié)果。研究首先結(jié)合計(jì)算流體動(dòng)力學(xué)（CFD)模擬和 PVT生長(zhǎng)實(shí)驗(yàn)，研究了SiC襯底上AlN的PVT生長(zhǎng)的表面控制。結(jié)果表明，在活性Al蒸氣的PVT生長(zhǎng)中，保持有宏觀(guān)臺(tái)階的SiC襯底的表面結(jié)構(gòu)十分重要，這需要在初始階段將生長(zhǎng)溫度和壓力限制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，直到AlN層完全覆蓋SiC表面。研究還發(fā)現(xiàn)在后續(xù)的生長(zhǎng)中，襯底表面附近的過(guò)飽和度控制對(duì)生長(zhǎng)模式具有重要的影響。過(guò)飽和度增加導(dǎo)致從二維生長(zhǎng)向三維生長(zhǎng)的轉(zhuǎn)變，從而使表面形貌變得粗糙。研究發(fā)現(xiàn)在500 mbar的壓力下，相應(yīng)的模式轉(zhuǎn)變溫度T_tran在1890°C到1910°C之間。以此為基礎(chǔ)，提出了兩步法生長(zhǎng)的方案，即先將生長(zhǎng)溫度T_g保持在接近SiC表面宏觀(guān)可以保持的溫度上限生長(zhǎng)，在SiC表面被AlN覆蓋后，將T_g升高到接近T_tran，以較高的速率進(jìn)行生長(zhǎng)。運(yùn)用兩步法，實(shí)現(xiàn)了厚度為824μm的表面光滑呈鏡面狀的2英寸以上的AlN單晶。 

在大的AlN籽晶上，研究開(kāi)展了兩次迭代同質(zhì)PVT生長(zhǎng)，進(jìn)行了4英寸AlN單晶的生長(zhǎng)。大尺寸AlN晶體同質(zhì)PVT過(guò)程以宏觀(guān)三維模式下生長(zhǎng)棱柱狀晶粒為主要特點(diǎn)，而蔓延生長(zhǎng)可以通過(guò)高指數(shù)面引導(dǎo)的晶柱融合實(shí)現(xiàn)形貌優(yōu)化和晶體質(zhì)量?jī)?yōu)化。運(yùn)用生長(zhǎng)速率對(duì)應(yīng)的與溫度和壓力的匹配關(guān)系，可以實(shí)現(xiàn)高效率的PVT蔓延生長(zhǎng)，提高c面取向的一致性和晶體質(zhì)量。運(yùn)用這一方法，在已經(jīng)實(shí)現(xiàn)的2英寸單晶襯底制備的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步完成2代的4英寸的AlN晶體同質(zhì)PVT迭代生長(zhǎng)。 

研究結(jié)果顯示，通過(guò)表面形貌控制的二步生長(zhǎng)法，可以在SiC襯底上異質(zhì)PVT生長(zhǎng)出大尺寸高質(zhì)量AlN晶體，并以此為籽晶，通過(guò)蔓延式生長(zhǎng)方法迭代進(jìn)行同質(zhì)PVT生長(zhǎng)，可以獲得優(yōu)化的2-4英寸的單晶襯底。這一研究結(jié)果，為實(shí)現(xiàn)大尺寸AlN單晶襯底的規(guī)?；苽浜彤a(chǎn)業(yè)應(yīng)用提供了技術(shù)基礎(chǔ)。 

嘉賓簡(jiǎn)介

于彤軍，1999年在日本國(guó)立東北大學(xué)獲得博士學(xué)位，1999年至2001年在日本郵政省通訊放送機(jī)構(gòu)仙臺(tái)研究中心任特聘研究員，現(xiàn)為北京大學(xué)物理學(xué)院教授，博士生導(dǎo)師。長(zhǎng)期從事寬禁帶半導(dǎo)體發(fā)光材料、物理和器件研究，在氮化物晶體、薄膜材料以及納米結(jié)構(gòu)外延生長(zhǎng)機(jī)理研究、缺陷和應(yīng)力控制、AlGaN基深紫外發(fā)光偏振光學(xué)特性和光場(chǎng)調(diào)控方面取得一系列成果。2016年起開(kāi)展AlN單晶生長(zhǎng)研究，實(shí)現(xiàn)了PVT法2英寸AlN晶體生長(zhǎng)，承擔(dān)科技部十四五重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目、基金委重點(diǎn)項(xiàng)目等多項(xiàng)科研項(xiàng)目。共發(fā)表 SCI 收錄論文 120 余篇，獲得授權(quán)/申請(qǐng)國(guó)家發(fā)明專(zhuān)利 30 余件，曾獲中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光學(xué)科技獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、教育部科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)和北京市科學(xué)技術(shù)三等獎(jiǎng)。