2024年4月9-11日,一年一度化合物半導(dǎo)體行業(yè)盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(簡稱“JFSC&CSE”)將于武漢光谷科技會展中心舉辦。凌云光技術(shù)股份有限公司將攜新品亮相本屆盛會,誠邀業(yè)界同仁蒞臨A205展臺參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實驗室共同主辦,以“聚勢賦能 共赴未來”為主題,將匯集全球頂尖的化合物半導(dǎo)體制造技術(shù)專家、行業(yè)領(lǐng)袖和創(chuàng)新者,采用“示范展示+前沿論壇+技術(shù)與商貿(mào)交流”的形式,為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準對接平臺,助力企業(yè)高效、強力拓展目標客戶資源,加速驅(qū)動中國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級。
CSE作為2024年首場國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會得到了多方力量的大力支持,三大主題展區(qū),六大領(lǐng)域,將集中展示各鏈條關(guān)鍵環(huán)節(jié)的新技術(shù)、新產(chǎn)品、新服務(wù),將打造化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的標桿性展會。助力打造全球化合物半導(dǎo)體平臺、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的燈塔級盛會,集中展示化合物半導(dǎo)體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品,搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術(shù)的首選平臺,支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設(shè)具有全球影響力的萬億級光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。
凌云光股份以光技術(shù)創(chuàng)新為基礎(chǔ),圍繞機器視覺與光纖光學(xué)開展業(yè)務(wù),致力于成為視覺人工智能與光電信息領(lǐng)域的全球領(lǐng)導(dǎo)者。公司曾獲得一項國家技術(shù)發(fā)明一等獎和兩項國家科學(xué)技術(shù)進步二等獎。公司戰(zhàn)略聚焦機器視覺業(yè)務(wù),堅持“為機器植入眼睛和大腦”,為客戶提供可配置視覺系統(tǒng)、智能視覺裝備與核心視覺器件等高端產(chǎn)品與解決方案。公司堅持以客戶為中心,賦能電子制造、新型顯示、印刷包裝、新能源、影視動漫、科學(xué)圖像、軌道交通等行業(yè)的智能“制造”?;?0余年在光學(xué)成像、視覺軟件與算法、核心視覺部件等領(lǐng)域的技術(shù)積累,公司持續(xù)產(chǎn)品創(chuàng)新,努力成為客戶最優(yōu)的、戰(zhàn)略的、信賴的和榮耀的選擇。在光纖光學(xué)領(lǐng)域,公司是高端光器件與儀器的解決方案提供商,同時為廣電行業(yè)提供自主的寬帶光接入與智慧家庭組網(wǎng)解決方案。
產(chǎn)品介紹
化合物半導(dǎo)體晶圓量/檢測機
產(chǎn)品型號:Super Cobra L1000
適用于化合物半導(dǎo)體(SiC/GaN/GAAS/CZT/MCT等)、硅基,ADI 、AEI、OQC檢測需求,先進封裝RDL、TSV、BUMP量檢測
主要參數(shù):
最小檢測精度:< 0.5um
在線3D量測:0.01nm(干涉)/2nm(共聚焦)
在線2D量測精度:0.2um
多倍率自動切換鏡頭:3.5X,5X,10X,20X,50X,100X(可選)
光學(xué)配置:明/暗場檢測
光源:多種波長光源可選
產(chǎn)品尺寸:“兼容4-8寸wafer
吞吐量:30UPH
其他:AI自主定義分類分級、自動聚焦
產(chǎn)品名稱:半導(dǎo)體芯片量/檢查機
產(chǎn)品型號:Generalist M2000
應(yīng)用場景:適用于化合物半導(dǎo)體(SiC/GaN/GAAS/CZT/MCT等)、硅基芯片,劃裂前、后,分選、出貨量檢測;
主要參數(shù):
最小檢測精度:<2um
在線3D量測:最小0.1um
在線2D量測精度:5um
鏡頭配置:多種配置可選(1X/2X/3X/5X/11.5X)
光源:明/暗場檢測
光源:多種波長明/暗場光源、UV光、背光等多種配置組合
兼容性:4-12寸wafer,鐵環(huán)(方鐵、圓鐵)、膠環(huán)等多種產(chǎn)品形態(tài)
UPH:6’ 35(3um檢測精度)
其他:AI自主定義分類分級、輔助聚焦(可選)、特殊定制需求
產(chǎn)品名稱:化合物半導(dǎo)體無圖檢查機
產(chǎn)品型號:SandWich CS 1000
應(yīng)用場景:適用于化合物半導(dǎo)體(SiC/GAN/GAAS/CZT/MCT等)外延、襯底檢測
主要參數(shù):
相機:高速線掃相機
最小檢測精度:<2um
最小點測精度:<0.4um
鏡頭配置:多種配置可選(3X/5X/7.5X)
光學(xué)配置:明/暗場檢測
光源:多種波長明暗/場光源、PL、DIC等多種配置組合
兼容性:4-12寸wafer
UPH:6’ 60(3um檢測精度)
自由曲面形貌檢測:1um(Z)
其他:AI自主定義分類分級、特殊定制需求
值此之際,我們誠邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會,蒞臨展位現(xiàn)場參觀交流、洽談合作。
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