2024年4月8-11日，一年一度化合物半導(dǎo)體行業(yè)盛會(huì)——2024九峰山論壇暨中國(guó)國(guó)際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（簡(jiǎn)稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會(huì)展中心舉辦。賽默飛世爾科技中國(guó)將攜新品亮相本屆盛會(huì)，誠(chéng)邀業(yè)界同仁蒞臨1T33展臺(tái)參觀、交流合作。

本屆CSE博覽會(huì)由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實(shí)驗(yàn)室共同主辦，以“聚勢(shì)賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導(dǎo)體制造技術(shù)專家、行業(yè)領(lǐng)袖和創(chuàng)新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術(shù)與商貿(mào)交流”的形式，為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準(zhǔn)對(duì)接平臺(tái)，助力企業(yè)高效、強(qiáng)力拓展目標(biāo)客戶資源，加速驅(qū)動(dòng)中國(guó)化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級(jí)。

CSE作為2024年首場(chǎng)國(guó)際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)得到了多方力量的大力支持，三大主題展區(qū)，六大領(lǐng)域，將集中展示各鏈條關(guān)鍵環(huán)節(jié)的新技術(shù)、新產(chǎn)品、新服務(wù)，將打造化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的標(biāo)桿性展會(huì)。助力打造全球化合物半導(dǎo)體平臺(tái)、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的燈塔級(jí)盛會(huì)，集中展示化合物半導(dǎo)體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品，搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術(shù)的首選平臺(tái)，支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設(shè)具有全球影響力的萬(wàn)億級(jí)光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。

自1982年在中國(guó)設(shè)立第一個(gè)銷售辦事處至今，賽默飛世爾科技已正式進(jìn)入中國(guó)40余年。我們?cè)谥袊?guó)的總部設(shè)于上海，并在北京、廣州、香港、成都、沈陽(yáng)、西安、南京、武漢、濟(jì)南等地設(shè)立了17個(gè)商業(yè)辦公室，員工人數(shù)超過7000名。我們的產(chǎn)品主要包括分析儀器、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、試劑、耗材和軟件等，提供實(shí)驗(yàn)室綜合解決方案以及藥物研發(fā)和臨床試驗(yàn)方案，為各行各業(yè)的客戶服務(wù)。 為了滿足中國(guó)市場(chǎng)的需求，現(xiàn)有9家工廠分別在上海、北京、蘇州和廣州等地運(yùn)營(yíng)。我們?cè)谌珖?guó)還設(shè)立了6個(gè)應(yīng)用開發(fā)中心以及示范實(shí)驗(yàn)室，將世界級(jí)的前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給中國(guó)客戶，并提供應(yīng)用開發(fā)與培訓(xùn)等多項(xiàng)服務(wù)；位于上海和蘇州的2個(gè)中國(guó)創(chuàng)新研發(fā)中心，擁有110多位專業(yè)研究人員和工程師及100多項(xiàng)專利。創(chuàng)新中心專注于垂直市場(chǎng)的產(chǎn)品研究和開發(fā)，結(jié)合中國(guó)市場(chǎng)的需求和國(guó)內(nèi)外先進(jìn)技術(shù)，研發(fā)適合中國(guó)用戶的技術(shù)和產(chǎn)品；我們擁有遍布全國(guó)的維修服務(wù)網(wǎng)點(diǎn)和特別成立的中國(guó)技術(shù)培訓(xùn)團(tuán)隊(duì)，在全國(guó)有9個(gè)服務(wù)中心以及2800余名專業(yè)人員直接為客戶提供服務(wù)。 我們致力于幫助客戶使世界更健康、更清潔、更安全。欲了解更多信息，請(qǐng)登錄網(wǎng)站：www.thermofisher.cn  

產(chǎn)品介紹

ELITE系統(tǒng)

先進(jìn)的封裝應(yīng)用、復(fù)雜的互連方案和更高性能的功率器件的快速增長(zhǎng)給故障定位和分析帶來了前所未有的挑戰(zhàn)。有缺陷或性能不佳的半導(dǎo)體器件通常表現(xiàn)出局部功率損耗的異常分布，導(dǎo)致局部溫度升高。Thermo Scientific ELITE 系統(tǒng)利用鎖相紅外熱成像 (LIT) 進(jìn)行半導(dǎo)體器件故障定位，可以準(zhǔn)確有效地定位這些目標(biāo)區(qū)域。ELITE的主要特點(diǎn)有：

· 堆疊裸片分析：可用于定位完全封裝的器件上裸片堆棧內(nèi) X、Y 和 Z 深度的缺陷。

·  "無(wú)限制"數(shù)據(jù)累積時(shí)間，可獲得更好的分辨率：可以在"無(wú)限"的時(shí)間內(nèi)累積更高頻率的 LIT 數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)采集持續(xù)延長(zhǎng)，數(shù)據(jù)分辨率提高。

·  采集時(shí)間越長(zhǎng)，靈敏度越高

·  可選透鏡靈活性 

Helios 5 Hydra DualBeam

可以提供四種不同的離子種類作為主離子束，讓您可以選擇能為樣品和用例（如掃描透射電子顯微鏡 [STEM] 和透射電子顯微鏡 [TEM] 樣品制備和 3D 材料表征）提供最佳結(jié)果的離子。主要特點(diǎn)有：

· 應(yīng)用空間廣泛：獨(dú)特離子源可提供以下四種快速、可切換離子種類，應(yīng)用空間最為廣泛：Xe、Ar、O、N

·  高通量和高質(zhì)量：使用下一代 2.5 μA 等離子 FIB 色譜柱進(jìn)行高通量、高質(zhì)量和統(tǒng)計(jì)學(xué)相關(guān)的 3D 表征、交叉切片和微加工。

· 先進(jìn)的自動(dòng)化：使用選配的 AutoTEM 5 軟件，以最快速輕松的方式實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化多點(diǎn)原位和非原位 TEM 樣品制備以及交叉切片

· 高質(zhì)量樣品制備

· 納米級(jí)實(shí)現(xiàn)周期短

·  完整的樣品信息

· 電子和離子束誘導(dǎo)沉積和蝕刻

·  精確的樣品導(dǎo)航 

·  無(wú)偽影成像

Talos系列(S)TEM

支持快節(jié)奏的工藝開發(fā)和良率提升，這使得半導(dǎo)體分析實(shí)驗(yàn)室能夠顯著應(yīng)變，因?yàn)樗鼈儽仨毮軌驅(qū)Χ喾N材料和設(shè)備進(jìn)行可重復(fù)的高分辨率表征。Talos系列(S)TEM 設(shè)計(jì)時(shí)考慮到這些實(shí)驗(yàn)室，與先前 Talos 模型相比提供了 >1.5 倍快速 EDS 分析，且 TEM 圖像失真 ≤ 1%。速度和重復(fù)性改進(jìn)使 Talos系列(S)TEM 成為設(shè)備分析、缺陷表征和良率支持的行業(yè)選擇。主要特點(diǎn)有：

· 高質(zhì)量 (S)TEM 成像：高通量 TEM 成像，盡可能減少失真同時(shí)進(jìn)行多信號(hào)檢測(cè)和對(duì)比度優(yōu)化的 STEM 成像。

· 精確、高速化學(xué)表征：快速、精確、定性或定量 EDS 采集和分析。

· 致力于半導(dǎo)體相關(guān)應(yīng)用：包括：標(biāo)本-載物臺(tái)同步實(shí)時(shí) TEM 圖像旋轉(zhuǎn)、多 STEM 檢測(cè)器同時(shí)操作、集成微分相差 (iDPC) 成像、STEM 視野匹配、即時(shí) EDS 圖譜量化、圖像失真極小等。

值此之際，我們誠(chéng)邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會(huì)，蒞臨展位現(xiàn)場(chǎng)參觀交流、洽談合作。 

關(guān)于JFSC&CSE 2024