2024年4月8-11日，一年一度化合物半導(dǎo)體行業(yè)盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會展中心舉辦。珠海誠鋒電子科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會，誠邀業(yè)界同仁蒞臨2T43展臺參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實(shí)驗(yàn)室共同主辦，以“聚勢賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導(dǎo)體制造技術(shù)專家、行業(yè)領(lǐng)袖和創(chuàng)新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術(shù)與商貿(mào)交流”的形式，為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準(zhǔn)對接平臺，助力企業(yè)高效、強(qiáng)力拓展目標(biāo)客戶資源，加速驅(qū)動中國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級。
CSE作為2024年首場國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會得到了多方力量的大力支持，三大主題展區(qū)，六大領(lǐng)域，將集中展示各鏈條關(guān)鍵環(huán)節(jié)的新技術(shù)、新產(chǎn)品、新服務(wù)，將打造化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的標(biāo)桿性展會。助力打造全球化合物半導(dǎo)體平臺、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的燈塔級盛會，集中展示化合物半導(dǎo)體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品，搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術(shù)的首選平臺，支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設(shè)具有全球影響力的萬億級光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。
珠海誠鋒電子科技有限公司總部位于大灣區(qū)珠江口西岸核心城市一一珠海，公司在蘇州、合肥、上海、北京、深圳、成都、武漢、廈門、紹興、泰國、新加坡等國內(nèi)外設(shè)立分公司及辦事處，立足中國，放眼世界。多年來專注于半導(dǎo)體光學(xué)視覺檢測設(shè)備行業(yè)，是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的半導(dǎo)體視覺檢測設(shè)備制造商。公司聚集了一批深耕機(jī)器視覺技術(shù)領(lǐng)域20多年的精英人才，自主研發(fā)多種高靈敏度、低噪聲的光源光路技術(shù)以及多種軟件檢測算法和機(jī)器學(xué)習(xí)算法，每個電子配件都經(jīng)過嚴(yán)格挑選，只用正規(guī)品牌，整機(jī)加工精度達(dá)到國際標(biāo)準(zhǔn)，打造擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的半導(dǎo)體裝備，為客戶提供全方位的半導(dǎo)體制造良率控制和視覺瑕疵檢測解決方案。
誠鋒科技專注于FAB圖形晶圓檢測設(shè)備的研發(fā)，將多年來積累的機(jī)器視覺技術(shù)，深厚的光學(xué)光路設(shè)計(jì)成果和智能化軟件檢測算法，跟行業(yè)最新的工藝需求相結(jié)合，設(shè)計(jì)出一系列擁有完整知識產(chǎn)權(quán)的圖形晶圓檢測設(shè)備，適用于前段工藝控制的CFW920系列/CFW820系列、后段工藝檢測的CFW380系列，以及紅外檢測的CFW680系列。誠鋒科技持續(xù)創(chuàng)新，不斷對標(biāo)全球領(lǐng)先技術(shù)，我們開發(fā)并提供工藝控制和工藝促進(jìn)解決方案，助力光通信、新能源等多個前沿領(lǐng)域的發(fā)展。誠鋒科技以卓越的檢測能力和出色的服務(wù)品質(zhì)，高效滿足客戶需求，把評價設(shè)備質(zhì)量的話語權(quán)交給客戶，讓客戶真正成為上帝。公司已獲得40多項(xiàng)國家專利技術(shù)證書，榮獲國家高新技術(shù)企業(yè)、專精特新企業(yè)，ISO-9001質(zhì)量管理體系、ISO-14001環(huán)境管理體系、知識產(chǎn)權(quán)管理體系等認(rèn)證資質(zhì)。誠鋒科技，持續(xù)創(chuàng)新，用創(chuàng)新驅(qū)動價值增長，以品質(zhì)提升品牌價值，致力于解決國內(nèi)半導(dǎo)體視覺檢測“卡脖子”難題，真正實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化替代，成為半導(dǎo)體行業(yè)視覺檢測設(shè)備領(lǐng)跑者。
產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品名稱：CFW920-Fab前段工藝控制設(shè)備
應(yīng)用場景：ADI/AEI/Post CMP/先進(jìn)封裝/切割道/0QC
適用領(lǐng)域：
1. FAB前段工藝控制
2. 支持12” /8” /6” wafer
3. 支持Taiko/Thin減薄工藝
4. 支持wafer翻轉(zhuǎn)功能
5. ADC 自動缺陷分類
像素分辨率：
170 nm@20X
放大倍率：2X/5X/10X/20X,50X/100X
特點(diǎn)：
良率控制，細(xì)微缺陷檢測
產(chǎn)品名稱：CFW820-Fab前段缺陷檢測設(shè)備
應(yīng)用場景：ADI/AEI/Post CMP/先進(jìn)封裝/切割道/0QC
適用領(lǐng)域：
1. FAB前段工藝控制
2. 支持12” /8” /6” wafer
3. 支持Taiko/Thin減薄工藝
4. 支持wafer翻轉(zhuǎn)功能
5. ADC 自動缺陷分類
像素分辨率：
976nm@5X
放大倍率：2X/5X/10X/20X
特點(diǎn)：
AOI，大缺陷快速篩選
產(chǎn)品名稱：CFW380-Fab后段缺陷檢測
應(yīng)用場景：OQC/切割后檢測/擴(kuò)膜后檢測
適用領(lǐng)域：
1. FAB 品質(zhì)終檢
2. wafer劃片后/擴(kuò)膜后檢測
3. 支持12” /8” /6” wafer
4. 支持Taiko/Thin減薄工藝
5. 支持wafer翻轉(zhuǎn)功能
6. ADC 自動缺陷分類
像素分辨率：
2.4μm@2X
放大倍率：1x/2X/5X
特點(diǎn)：
良率控制，細(xì)微缺陷檢測
【企業(yè)聯(lián)系方式】
企業(yè)官網(wǎng)：www.klat.com.cn
聯(lián)系人：潘麗娜
聯(lián)系電話：13168691510
郵箱：panlina@chengfengvs.com
公司地址：廣東省珠海市高新區(qū)科技七路1號四棟
值此之際，我們誠邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會，蒞臨展位現(xiàn)場參觀交流、洽談合作。
關(guān)于JFSC&CSE 2024
