日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所（AIST）正在與英特爾公司合作，投資1000億日元（7億美元），建立一個尖端半導(dǎo)體研究中心。該研究中心將于2027年投入使用，將專注于先進(jìn)半導(dǎo)體的開發(fā)。英特爾將與AIST合作建立該研究中心，并由AIST負(fù)責(zé)運營。英特爾將提供極紫外（EUV）光刻技術(shù)方面的專業(yè)知識，該技術(shù)對生產(chǎn)小于5nm的芯片至關(guān)重要。這將是日本研究所首次安裝EUV光刻設(shè)備。

英特爾和AIST還將成立一家合資公司來監(jiān)督該項目。AIST將投資約1000億日元，并尋求日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料供應(yīng)商的進(jìn)一步資助。研究中心可能設(shè)在AIST位于茨城縣筑波的主基地，預(yù)計將聘請約100名專家，其中包括半導(dǎo)體公司的退休人員。

資金將來自日本政府補貼和“后5G基金”等先進(jìn)半導(dǎo)體開發(fā)項目，部分企業(yè)投資將填補缺口。鑒于EUV設(shè)備成本高昂，企業(yè)可以支付使用費來使用這些工具，并參與AIST的項目。英特爾在日本開發(fā)先進(jìn)芯片技術(shù)的努力不止于此。2024年4月，英特爾與歐姆龍和夏普合作成立半導(dǎo)體后端工藝工程自動化和標(biāo)準(zhǔn)化研究協(xié)會（SATAS），隨后，AIST、TDK和Aoi Electronics也加入了該協(xié)會。

 （來源：集微）