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天岳先進攜12英寸導電N型碳化硅襯底亮相SEMICON Japan 2024

日期:2024-12-17 閱讀:289
核心提示:天岳先進與您共探SEMICON Japan 2024科技之旅!

2024年12月11日至13日,全球知名的日本國際半導體展覽會SEMICON JAPAN在東京隆重舉行,展會現(xiàn)場人流如織。來自全球的1100多家器件制造商、芯片制造商、設備供應商和材料企業(yè),以及涉足汽車和人工智能等半導體智能應用領域的企業(yè)紛紛亮相。全球頂尖企業(yè)機構(gòu)和技術專家,共同暢想半導體行業(yè)蓬勃發(fā)展的美好未來,和對快速變化的行業(yè)市場的豐富洞察。

在這場科技盛宴中,作為全球碳化硅襯底領域的領軍企業(yè),天岳先進展示了備受矚目的12英寸導電N型碳化硅襯底,以及業(yè)內(nèi)領先的高品質(zhì)低阻P型碳化硅襯底及高純半絕緣型襯底等多款全球領先產(chǎn)品,成為展會焦點。

堅持技術引領,拓展市場空間

隨著全球?qū)Ω咝阅堋⒏咝拾雽w材料的需求日益增長,碳化硅(SiC)材料因其在高溫、高壓、高頻等多種環(huán)境下的卓越性能,已成為行業(yè)發(fā)展延申的必然趨勢之一。天岳先進展示的碳化硅襯底產(chǎn)品和技術,成為了解最新碳化硅技術的絕佳窗口,吸引了眾多客戶專家訪客接踵交流。

全球首枚12英寸導電N型碳化硅襯底,改寫了碳化硅襯底歷史,引起國際廣泛關注。12英寸碳化硅襯底的面積是8英寸的2.25倍,可使用率約為8英寸的2.5倍左右,單片碳化硅片產(chǎn)出更多晶片。超大尺寸襯底拓寬了下游應用場景,對行業(yè)的未來應用具有里程碑式的意義。

業(yè)內(nèi)領先的6英寸高質(zhì)量低阻P型碳化硅襯底,已實現(xiàn)客戶成功交付驗證,極大加速高性能SiC-IGBT的發(fā)展進程,未來將會更多應用于以智能電網(wǎng)為代表的更高電壓領域。天岳先進高質(zhì)量低阻P型碳化硅襯底使用液相法制備,在長晶原理上決定了可以生長超高品質(zhì)的碳化硅晶體,電阻率小于200mΩ·cm,面內(nèi)電阻率分布均勻,結(jié)晶性良好。4度偏角P型襯底可以直接用于外延和器件制造,彌補了行業(yè)空缺,激發(fā)了市場的極大興趣。

高純半絕緣型襯底,作為高頻射頻器件的重要材料,正在5G基站、衛(wèi)星通信、低空經(jīng)濟等場景中發(fā)揮重要作用,并延伸更多應用場景。產(chǎn)品在全球市場占有率連續(xù)五年排名前三。同樣展出的8英寸無小面導電型襯底,實現(xiàn)了近“零TSD”和低BPD密度的制備,有效提升了晶圓制備利用率,獲得車規(guī)級器件廠商的青睞。

天岳先進面向行業(yè)客戶和產(chǎn)業(yè)鏈合作伙伴展示了第三代半導體領域的創(chuàng)新產(chǎn)品和技術優(yōu)勢,展現(xiàn)其在碳化硅材料領域的卓越成就。

共同探索低碳數(shù)智

未來展期內(nèi),天岳先進也與全球同行共同探討化合物半導體的發(fā)展趨勢和應用前景。分享天岳先進在碳化硅襯底領域的最新研究成果,以及通過技術創(chuàng)新推動行業(yè)快速發(fā)展。通過國際交流與合作,天岳先進攜手行業(yè)上下游共同探討推進化合物半導體技術的發(fā)展進程。

品質(zhì)為本,打造行業(yè)標桿

基于高質(zhì)量標準的開放競爭是行業(yè)可持續(xù)發(fā)展的主導力量,天岳先進作為碳化硅襯底的領先供應商,將持續(xù)參與打造行業(yè)標準,為市場提供高品質(zhì)產(chǎn)品。通過加大研發(fā)投入,推動產(chǎn)品性能的持續(xù)提升,同時積極參與國際標準的制定,以確保我們的技術和產(chǎn)品能夠滿足全球客戶的性能品質(zhì)要求。努力成為全球碳化硅襯底領域的標桿企業(yè),引領行業(yè)走向可持續(xù)發(fā)展的蓬勃未來。

天岳先進將秉持“先進 品質(zhì) 持續(xù)“的發(fā)展理念,與合作伙伴攜手并進,共同構(gòu)筑低碳數(shù)智未來!

關于天岳先進

山東天岳先進科技股份有限公司成立于2010年,是一家專注于碳化硅襯底材料的高科技領軍企業(yè),2022年成功登陸A股科創(chuàng)板。堅持技術引領,天岳先進目前已實現(xiàn)8英寸碳化硅襯底的穩(wěn)定量產(chǎn),并掌握行業(yè)最大尺寸12英寸碳化硅襯底的生產(chǎn)技術。堅持品質(zhì)引領,從產(chǎn)品質(zhì)量、尺寸、性能、產(chǎn)能、服務等多維度對標世界一流水平,得到國際大廠廣泛認可,躋身國際碳化硅襯底領域第一梯隊。

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