9月29日，蘇州晶瑞化學(xué)股份有限公司（股票簡(jiǎn)稱：晶瑞股份，股票代碼：300655）對(duì)外發(fā)布公告稱，公司為開(kāi)展集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目，擬通過(guò)Singtest Technology PTE. LTD.進(jìn)口韓國(guó) SK Hynix 的 ASML光刻機(jī)設(shè)備，總價(jià)款為1102.5萬(wàn)美元。公司董事會(huì)審議通過(guò)了《關(guān)于購(gòu)買設(shè)備的議案》，同意授權(quán)公司法定代表人或法定代表人指定的授權(quán)代理人全權(quán)辦理相關(guān)合同的簽署及設(shè)備采購(gòu)事宜。
據(jù)披露，SK海力士(SK Hynix)是韓國(guó)一家生產(chǎn)動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器芯片和閃存芯片的半導(dǎo)體供應(yīng)商。海力士是全球第二大內(nèi)存芯片制造商，僅次于三星電子之后。作為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體廠商，SK海力士在韓國(guó)利川與青州、中國(guó)無(wú)錫與重慶設(shè)有 四個(gè)生產(chǎn)基地，并在全球建立了四個(gè)研發(fā)中心與十個(gè)銷售機(jī)構(gòu)。
晶瑞股份表示，本次合同的順利履行可以保障集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目關(guān)鍵設(shè) 備的技術(shù)先進(jìn)性和設(shè)備如期到位并投產(chǎn)，對(duì)加快項(xiàng)目進(jìn)度有積極影響。本次交易有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競(jìng)爭(zhēng)力，有助于落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險(xiǎn)能力和可持續(xù)發(fā)展能力。
超凈高純?cè)噭?shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化
據(jù)覽富財(cái)經(jīng)網(wǎng)了解，晶瑞股份是一家微電子材料的平臺(tái)型高新技術(shù)企業(yè)，圍繞泛半導(dǎo)體材料和新能源材料兩個(gè)方向，主導(dǎo)產(chǎn)品包括超凈高純?cè)噭⒐饪棠z、功能性材料、鋰電池材料和基礎(chǔ)化工材料等。
其中，超凈高純?cè)噭┦强刂祁w粒和雜質(zhì)含量的電子工業(yè)用化學(xué)試劑，在半導(dǎo)體行業(yè)被廣泛應(yīng)用于清洗和蝕刻工段的關(guān)鍵性材料，該類產(chǎn)品對(duì)于金屬雜質(zhì)含量的控制有著極其嚴(yán)苛的要求.
目前半導(dǎo)體用的主要高純化學(xué)試劑品種有高純硫酸、高純過(guò)氧化氫、高純氨水、高純鹽酸等。超凈高純?cè)噭┲饕糜诎雽?dǎo)體、平板顯示、LED、光伏太陽(yáng)能電池等電子信息產(chǎn)品的清洗、蝕刻等工藝環(huán)節(jié)。
晶瑞股份在半導(dǎo)體材料方面布局的高純雙氧水、高純氨水及在建的高純硫酸等產(chǎn)品品質(zhì)已達(dá)到或者可達(dá)到SEMI最高等級(jí)G5 水準(zhǔn)，金屬雜質(zhì)含量均低于10ppt，高純硫酸產(chǎn)品預(yù)計(jì)2020年實(shí)現(xiàn)投產(chǎn)后，半導(dǎo)體用量最大的三個(gè)高純濕化學(xué)品將整體達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，可基本解決高純化學(xué)品這一大類芯片制造材料的本地化供應(yīng).
公司目前已投產(chǎn)主導(dǎo)產(chǎn)品獲得半導(dǎo)體頭部公司、華虹宏力、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等國(guó)內(nèi)知名半導(dǎo)體客戶的采購(gòu)。另外，公司其他多種超凈高純?cè)噭┤鏐OE、硝酸、鹽酸、氫氟酸等產(chǎn)品品質(zhì)全面達(dá)到G3、G4等級(jí)，可滿足平板顯示、LED、光伏太陽(yáng)能等行業(yè)的客戶需求。
整體來(lái)看，晶瑞股份自2001年開(kāi)始高端雙氧水的研發(fā)和生產(chǎn)，自主開(kāi)發(fā)了先進(jìn)的提純技術(shù)，并獲得了發(fā)明專利。超大規(guī)模集成電路用超凈高純雙氧水技術(shù)突破了國(guó)外技術(shù)壟斷，產(chǎn)品品質(zhì)可達(dá)到10ppt以下，滿足SEMI制定的最高純度等級(jí)，成功填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白。
光刻膠產(chǎn)品有30年生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)
據(jù)了解，光刻膠是芯片工藝制造中的關(guān)鍵材料，其技術(shù)水平?jīng)Q定了半導(dǎo)體產(chǎn)品的技術(shù)規(guī)格和能力，技術(shù)原理是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)光刻工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，由成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑等主要化學(xué)品成分和其他助劑組成。
在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上，經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒀谀ぐ嫔系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上，形成與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形。光刻膠按顯示的效果，可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。
晶瑞股份的光刻膠產(chǎn)品由公司的子公司蘇州瑞紅生產(chǎn)，蘇州瑞紅作為國(guó)內(nèi)光刻膠領(lǐng)域的先驅(qū)，規(guī)模生產(chǎn)光刻膠近30年，產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體及平板顯示領(lǐng)域，產(chǎn)品技術(shù)水平和銷售額處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先地位。
蘇州瑞紅1993年開(kāi)始光刻膠生產(chǎn)，承擔(dān)并完成了國(guó)家02專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目，i線光刻膠已向國(guó)內(nèi)頭部的知名大尺寸半導(dǎo)體廠商供貨，KrF(248nm深紫外)光刻膠完成中試，產(chǎn)品分辨率達(dá)到了0.25~ 0.13μm的技術(shù)要求，建成了中試示范線。
目前，公司紫外負(fù)型光刻膠和寬譜正膠及部分g線等高端產(chǎn)品已規(guī)模供應(yīng)市場(chǎng)數(shù)十年，i線光刻膠近年已供應(yīng)國(guó)內(nèi)頭部芯片公司，高端KrF(248)光刻膠處于中試階段。同時(shí)，公司擁有達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平的光刻膠生產(chǎn)線，實(shí)行符合現(xiàn)代電子化學(xué)品要求的凈化管理，擁有國(guó)家02專項(xiàng)資助的一流光刻膠研發(fā)和評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)室。
以人才技術(shù)謀求創(chuàng)新發(fā)展
令人關(guān)注的是晶瑞股份還擁有完善的研發(fā)體系、激勵(lì)機(jī)制和實(shí)力較強(qiáng)的研發(fā)隊(duì)伍，公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)通過(guò)多年的研發(fā)積累，取得了一大批擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)并產(chǎn)業(yè)化的科研成果;先后主持了國(guó)家、省、市科技項(xiàng)目二十余項(xiàng)，參與起草了多項(xiàng)國(guó)家和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
在長(zhǎng)期發(fā)展的過(guò)程中，公司重視技術(shù)人員的培養(yǎng)，多次派技術(shù)人員到德國(guó)、日本參觀交流、培訓(xùn)學(xué)習(xí)，同時(shí)與國(guó)內(nèi)多所知名高校、海內(nèi)外研究所等單位開(kāi)展技術(shù)合作。目前，公司已經(jīng)具備為下游客戶開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品的實(shí)力，具備以領(lǐng)先的工藝技術(shù)有效解決客戶對(duì)產(chǎn)品功能性需求的實(shí)力。
另外，公司建有國(guó)內(nèi)領(lǐng)先國(guó)際一流的分析檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室，配置有各類先進(jìn)的分析檢測(cè)儀器，目前實(shí)驗(yàn)室已通過(guò)中國(guó)合格評(píng)定國(guó)家認(rèn)可委員會(huì)的審核，并取得了CNAS認(rèn)證證書(shū)，為國(guó)內(nèi)同行業(yè)中首家獲得此認(rèn)證的企業(yè)。
