提及光刻機(jī)設(shè)備，大家第一時(shí)間想到的是必然是全球最大的光刻機(jī)巨頭——荷蘭ASML。這不僅僅是因?yàn)锳SML公司是當(dāng)前全球唯一一個(gè)可以生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商；更多的還在于，ASML在全球高端光刻機(jī)設(shè)備市場(chǎng)，幾乎處于100%壟斷的地位。
但近日，曾經(jīng)的老牌光刻機(jī)巨頭日本佳能卷土重來(lái)，再度殺入光刻機(jī)市場(chǎng)，ASML的霸主地位還能穩(wěn)如泰山嗎？
資料顯示，日本佳能成立于1937年，曾是最大的光刻機(jī)制造上之一，后來(lái)逐漸勢(shì)微；但佳能并沒(méi)有放棄光刻機(jī)業(yè)務(wù)。
據(jù)報(bào)道，1610503696(1)
FPA-3030i5a使用波長(zhǎng)為365nm的“i線”光源，支持直徑從2英寸到8英寸的小型基板；分辨率為0.35微米。如果從工藝角度來(lái)看，F(xiàn)PA-3030i5a仍屬于入門級(jí)產(chǎn)品；不過(guò)，它的意義在于提高產(chǎn)能。
國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)（SEMI）發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示，2019年由日本生產(chǎn)的半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備在全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)里的占比達(dá)到了31.3%。由此可見，日本企業(yè)在該領(lǐng)域仍具有一定的優(yōu)勢(shì)。
但自ASML EUV技術(shù)問(wèn)世以來(lái)，佳能和其他企業(yè)注定難以抵達(dá)光刻機(jī)領(lǐng)域的頂峰；想在全球光刻機(jī)市場(chǎng)站穩(wěn)腳跟，可技術(shù)卻不敵對(duì)手，佳能只能另辟蹊徑。
據(jù)悉，F(xiàn)PA-3030i5a光刻機(jī)不僅調(diào)整了測(cè)量晶圓位置的“校準(zhǔn)示波器”的構(gòu)成，還與曝光工序分開設(shè)置了測(cè)量單元。可支持識(shí)別多層和透明基板，并對(duì)晶圓背面進(jìn)行標(biāo)記。
這也就意味著，除主流硅晶圓外，新機(jī)型還能夠提高包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅在內(nèi)的多種小型晶圓較多的化合物半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率。
此外，佳能還致力于研發(fā)“后期工序”中使用的光刻機(jī)。例如2020年7月，佳能就曾推出515毫米*510毫米大型基板的光刻機(jī)。而根據(jù)可靠消息，目前佳能已經(jīng)展開新一代生產(chǎn)工藝的研發(fā)工作。
顯而易見，隨著全球純電動(dòng)汽車和物聯(lián)網(wǎng)的普及、高性能半導(dǎo)體需求的增加；以及最近芯片短缺問(wèn)題的出現(xiàn)，佳能看到了光刻機(jī)行業(yè)的商機(jī)。
而經(jīng)過(guò)多年的深耕，佳能在技術(shù)積累和開發(fā)經(jīng)驗(yàn)上，早已今時(shí)不同往日，或許在未來(lái)有望挑戰(zhàn)ASML的霸主地位。
