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【前沿技術(shù)】郭浩中教授團(tuán)隊(duì)導(dǎo)入ALD技術(shù),助力UVC LED突破技術(shù)難題

日期:2021-06-17 閱讀:561
核心提示:新型冠狀病毒(COVID-19)肆虐全球,全球品牌廠商對殺菌凈化的意識也大幅提升,無論是表面殺菌、空氣殺菌、水凈化等相關(guān)產(chǎn)品都格

新型冠狀病毒(COVID-19)肆虐全球,全球品牌廠商對殺菌凈化的意識也大幅提升,無論是表面殺菌、空氣殺菌、水凈化等相關(guān)產(chǎn)品都格外受到關(guān)注。其中深紫外光發(fā)光二極體(UVC LED)技術(shù)尤為熱門—短波長的UVC LED可有效破壞微生物之DNA、RNA,達(dá)到抑菌效果,進(jìn)而帶動(dòng)了整體市場規(guī)模的發(fā)展。

 

然而,UVC LED目前仍存在光電轉(zhuǎn)換效率低與壽命較低等問題,是此技術(shù)發(fā)展及應(yīng)用推廣過程中必須去面對和解決的難題。其中晶片可以說是UVC LED產(chǎn)業(yè)鏈中的核心,若晶片性能不好,無論封裝端如何提升結(jié)構(gòu)、技術(shù),都無法從根本上解決問題。

 

中國臺灣陽明交通大學(xué)(以下簡稱“陽明交大”)郭浩中教授團(tuán)隊(duì)使用芬蘭領(lǐng)先供應(yīng)商Picosun ALD (Atomic Deposition Layer) 設(shè)備沉積出鈍化層和阻隔膜,使UVC LED的使用壽命延長、可靠性增強(qiáng),ALD鈍化保護(hù)技術(shù)可以改善LED昂貴的封裝程序進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。

 

郭浩中教授受訪時(shí)提到:“本研究團(tuán)隊(duì)在LED的研究上已經(jīng)著墨多年,近幾年由于UVC LED與Micro LED的崛起,為了有效維持元件本身的光電特性,我們與Picosun密切合作并導(dǎo)入ALD鈍化保護(hù)技術(shù)。尤其UVC LED本身在磊晶過程中會(huì)產(chǎn)生許多晶格缺陷,ALD技術(shù)的應(yīng)用就顯得相當(dāng)重要。”

 

UVCLED中的氮化鋁鎵磊晶層存在晶格不匹配的特性,導(dǎo)致可靠性較低。為了獲得最大的光輸出功率和較長的工作壽命,LED晶片需要表面鈍化以消除由表面缺陷所引起的寄生電流。UVC LED本身具有高鋁含量的特性,容易受到空氣中的水氧影響,進(jìn)而產(chǎn)生漏電流,降低元件效率。

 

陽明交大郭浩中教授研究團(tuán)隊(duì)導(dǎo)入原子層鈍化沉積技術(shù)(ALD),沉積Al2O3做為鈍化保護(hù)絕緣層,再鍍上金屬電極與后段晶片制程。Al2O3提供極高的絕緣特性,有效減少電流在傳輸時(shí)晶片表面的漏電流,且使用ALD所沉積之Al2O3有非常高的深寬比(high aspect ratio),使其可在垂直側(cè)壁的孔洞上均勻的鍍上Al2O3。

 

如圖一(a)(b)為披覆在UVC LED表面的鈍化保護(hù)層(包含使用ALD沉積的Al2O3與使用PECVD沉積的SiO2);若單純使用一般CVD機(jī)臺沉積鈍化材料如SiO2,容易導(dǎo)致孔洞底部尚未均勻鍍膜,開口已經(jīng)被絕緣材料封閉的現(xiàn)象。

 

 

圖一、(a)(b) 高/低倍率條件下UVCLED表面的鈍化保護(hù)層表面形貌

 

圖二(a)比較有無進(jìn)行ALD鈍化保護(hù)技術(shù)時(shí)的元件漏電流特性,可以發(fā)現(xiàn)有進(jìn)行ALD鈍化保護(hù)技術(shù)的元件所產(chǎn)生的漏電流密度約為10–6 A/cm2,遠(yuǎn)低于沒有進(jìn)行ALD鈍化保護(hù)技術(shù)的5 х 10–3 A/cm2,表示在發(fā)光元件元件應(yīng)用上,ALD鈍化保護(hù)技術(shù)依舊提供優(yōu)異的鈍化保護(hù)層技術(shù),使得表面缺陷得以持續(xù)抑制,增加輻射復(fù)合效率。

 

此外,ALD鈍化保護(hù)技術(shù)抑制漏電流的同時(shí)也提供元件良好的可靠度,當(dāng)元件尺寸縮小時(shí),也代表側(cè)壁缺陷的比例對于整體元件而言已經(jīng)不可被忽視,此時(shí)的ALD鈍化保護(hù)技術(shù)就顯得非常重要,其能維持元件本身的特性。

 

圖二(b)顯示在環(huán)境(溫度/濕度)為(25 °C/ 60%)的可靠度測試條件下進(jìn)行的老化測試。可以觀察出經(jīng)過500小時(shí)的可靠度測試下,有進(jìn)行ALD鈍化保護(hù)技術(shù)的UVC LED之光輸出功率僅會(huì)下降10%,而沒有進(jìn)行ALD鈍化保護(hù)技術(shù)的元件則下降超過40%,代表ALD可以提供更好的成膜品質(zhì),減少側(cè)壁缺陷帶來的影響。相關(guān)研究成果已經(jīng)刊登至期刊《Photonics2021, 8, 196》。

 

 

圖二、(a)比較有無進(jìn)行ALD鈍化保護(hù)技術(shù)時(shí)的元件漏電流特性;

(b)UVC LED在環(huán)境(溫度/濕度)為(25 °C/ 60%)的可靠度測試條件下時(shí)進(jìn)行的元件可靠度測試

 

隨著晶片技術(shù)的進(jìn)步、新材料和封裝形式的引入,UVC LED的發(fā)光效率、使用壽命、價(jià)格問題會(huì)漸漸改善。性能提升之后,取代汞燈將是必然趨勢。(來源:陽明交大)

 

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