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外媒:美光科技將引入極紫外光刻機(jī)

日期:2021-07-02 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:281
核心提示:據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在2021財(cái)年第三財(cái)季的財(cái)報(bào)分析師電話(huà)會(huì)議上,美光科技CEO兼總裁Sanjay Mehrotra透露,他們將引入極紫外光刻機(jī)。
據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在2021財(cái)年第三財(cái)季的財(cái)報(bào)分析師電話(huà)會(huì)議上,美光科技CEO兼總裁Sanjay Mehrotra透露,他們將引入極紫外光刻機(jī)。
 
從Sanjay Mehrotra在財(cái)報(bào)分析師電話(huà)會(huì)議上透露的消息來(lái)看,美光科技是計(jì)劃2024年,在部分工藝節(jié)點(diǎn)部署極紫外光刻機(jī),隨后擴(kuò)大到更多工藝節(jié)點(diǎn)。
 
Sanjay Mehrotra還表示,他們一直在關(guān)注極紫外光刻機(jī)的進(jìn)展,他們其實(shí)也在評(píng)估引入極紫外光刻機(jī)。
 
事實(shí)上,美光科技此前就曾表示他們將引入極紫外光刻機(jī)。Sanjay Mehrotra在會(huì)上就提到,他們?cè)啻伪硎?,?dāng)他們認(rèn)為極紫外光刻機(jī)平臺(tái)及生態(tài)系統(tǒng)變得更成熟的時(shí)候,他們就將在適當(dāng)?shù)臅r(shí)間點(diǎn)引入極紫外光刻機(jī)。

美光表示,計(jì)劃從2024年開(kāi)始,將EUV納入DRAM開(kāi)發(fā)路線(xiàn)圖。另外,美光計(jì)劃在今年年底安裝ASML新一代EUV光刻機(jī)3600D。
 
值得注意的是,美光科技并不是首家引入極紫外光刻機(jī)的存儲(chǔ)芯片制造商,SK海力士就已在他們的M16工廠安裝極紫外光刻機(jī),在2月份就開(kāi)始試生產(chǎn)1anm的DRAM,預(yù)計(jì)在今年7月份開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)。

 
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