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購買ASML光刻機,晶瑞電材擬投建ArF光刻膠研發(fā)項目

日期:2021-08-13 來源:全球半導體觀察閱讀:236
核心提示:日前,晶瑞電子材料股份有限公司(以下簡稱“晶瑞電材”)發(fā)布公告稱,公司創(chuàng)業(yè)板向不特定對象發(fā)行可轉換公司債券已經深交所創(chuàng)業(yè)板上市委員會委員審議通過,并已經中國證監(jiān)會同意注冊。
日前,晶瑞電子材料股份有限公司(以下簡稱“晶瑞電材”)發(fā)布公告稱,公司創(chuàng)業(yè)板向不特定對象發(fā)行可轉換公司債券已經深交所創(chuàng)業(yè)板上市委員會委員審議通過,并已經中國證監(jiān)會同意注冊。

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據披露,晶瑞電材此次擬募集資金不超過5.23億元,扣除發(fā)行費用后將用于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目和陽恒化工年產9萬噸超大規(guī)模集成電路用半導體級高純硫酸技改項目一期建設項目。
 
其中,陽恒化工年產9萬噸超大規(guī)模集成電路用半導體級高純硫酸技改項目一期建設項目總投資1.87億元,擬使用募集資金不超過6700萬元,項目建成后將形成年產3萬噸超大規(guī)模集成電路用半導體級高純硫酸生產能力。
 
而集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目總投資4.89億元,擬使用募集資金3.13億元,由晶瑞電材負責實施建設、運營,建設期限為36個月。
 
該項目旨在通過自主研發(fā),打通ArF光刻膠用樹脂的工藝合成路線,完成ArF光刻膠用樹脂的中試示范線建設,滿足自身ArF光刻膠的性能要求。實現批量生產ArF Immersion光刻膠的成套技術體系并完成產品定型,技術指標和工藝性能滿足90~28nm集成電路技術和生產工藝要求。
 
為保障該項目關鍵設備的技術先進性和設備如期到位,晶瑞電材通過Singtest Technology PTE. LTD.進口ASML光刻機設備、購置ArF光刻機配套設備、建設研發(fā)大樓。
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晶瑞電材表示,該項目已完成ASML光刻機、勻膠顯影機、掃描電鏡、臺階儀等研發(fā)設備購置,其他研發(fā)設備正在積極購置當中。最終產業(yè)化完成后,晶瑞電材可提供90~28nm先進制程用ArF光刻膠,滿足當前集成電路產業(yè)關鍵材料市場需求。
 
不過,晶瑞電材亦在公告中提示,雖然公司具備充足研發(fā)人員儲備、多年研發(fā)量產經驗,全球光刻膠技術逐步由g/i線向EUV發(fā)展的技術迭代路線清晰且國外企業(yè)已有ArF產品研發(fā)完成并量產的現狀,但目前公司ArF光刻膠研發(fā)仍處于起步階段,尚未確定主配方。故本公司在ArF光刻膠研發(fā)過程中存在一定技術研發(fā)風險。 
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