電子信息時代下，移動互聯、智能化技術浪潮激發(fā)上游半導體產業(yè)爆發(fā)式增長?，F階段，半導體產業(yè)中，中國的崛起已是不爭的事實。半導體是現代電子產品的核心，應用于從智能手機到汽車的所有領域。隨著半導體行業(yè)的發(fā)展，器件變得更小、更快、更可靠、更強大。
在半導體設計、制造、封裝中的各個環(huán)節(jié)都要進行反復多次的檢測、測試以確保產品質量，從而研發(fā)出符合系統(tǒng)要求的器件。其中，相關的缺陷引起的故障成本高昂，從IC級別的數十美元，到模塊級別的數百美元，乃至應用端級別的數千美元。保障產品良率是半導體廠商最為關注的問題。
然而，影響產品良率的原因有很多，污染無疑是其中非常重要的因素。業(yè)內人士估計，污染造成了約50%的產量損失。因此，工欲善其事，必先利其器，檢測設備從設計驗證到整個半導體制造過程都具有無法替代的重要地位。目前，我國半導體材料國產化替代市場需求期望大、發(fā)展空間廣闊，同時各方資源共同推動行業(yè)上游材料、設備的進步。
尤其是從上世紀70年代到今天，芯片制程已經從“微米”時代，經過“納米”時代，發(fā)展到了今天10納米以下。隨著元件縮小到單個納米尺度，對控制晶圓、電子化學品、電子特氣和靶材等原材料中的污染物和雜質的含量的控制至關重要，因為即使是超痕量雜質污染物也會造成器件缺陷，降低制造產量，導致產品可靠性問題，或導致產品故障。
所以，半導體和電子產品中的雜質分析必須在整個制造過程的每個階段進行，從測試晶圓片、原材料和工藝化學品到最終產品的質量保證/質量控制。另外，真空的控制也貫穿半導體全產業(yè)鏈的裝置制造、傳感器制造、控制器件制造過程等先進制造環(huán)節(jié)。
然而半導體雜質含量通常在ppt級，ICP-MS分析時用到的氬氣及樣品基體都很容易產生多原子離子干擾，標準模式、碰撞模式下很難在高本底干擾的情況下分析痕量的目標元素。
作為半導體領域的全球領導者，自 20 世紀 80 年代后期以來，安捷倫與領先的半導體制造商和化學品供應商密切合作，開發(fā)針對半導體產業(yè)鏈分析技術和監(jiān)測技術，應對半導體行業(yè)的分析調整，并始終處于創(chuàng)新最前沿。
安捷倫積累了的大量創(chuàng)新技術和卓越的服務能力，在半導體產業(yè)鏈中的制程監(jiān)測、原材料質控、無機雜質、納米顆粒、有機雜質檢測，符合環(huán)境健康和安全法規(guī)需求，以及真空檢漏等方面，安捷倫都會提供分析儀器、軟件、服務和支持。
2022年5月18-20日，安捷倫亮相由DT新材料主辦的第二屆碳基半導體材料與器件產業(yè)發(fā)展論壇（CarbonSemi 2022）展位號A9，相約浙江寧波東港喜來登酒店，歡迎大家蒞臨展位參觀交流！
關于安捷倫科技公司
安捷倫科技公司（紐約證交所：A）是生命科學、診斷和應用化學市場領域的全球領導者，致力于提供敏銳洞察與創(chuàng)新，幫助提高生活質量。我們的儀器、軟件、服務、解決方案和專家能夠為客戶最具挑戰(zhàn)性的難題提供更可靠的答案。在 2021 財年，安捷倫的營業(yè)收入為 63.4 億美元，全球員工數為 17000 人。如需了解安捷倫公司的詳細信息，請訪問 www.agilent.com。
Agilent 8900 串聯四極桿 ICP-MS
Agilent 8900 串聯四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是行業(yè)中成功且應用廣泛的串聯電感耦合等離子體質譜儀。Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置，適合從常規(guī)商業(yè)分析到高級研究和高純度材料分析的應用，其重新定義了 ICP-MS 性能，可提供可靠的分析結果。8900 系統(tǒng)具有與安捷倫市場領先的單四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)相同的基質耐受性和穩(wěn)定性，并與超高效的氦 (He) 碰撞模式相結合。但 8900 系統(tǒng)增加了串聯質譜操作 (ICP-MS/MS)，可對碰撞反應池 (CRC) 中的反應化學過程進行精確的控制，使其成為強大、靈活的多元素分析儀。
特性
MS/MS 控制反應化學過程，可確保提供一致、可靠的結果，即使對于此前難以分析的元素（如 Si、P 和 S）也是如此；
反應化學過程可解決同量異位素重疊問題，這超出了高分辨率 ICP-MS 的能力；
四通道反應池氣體控制可提供快速、靈活的多模式操作；
一套預設方法簡化了常規(guī)分析的方法設置；
氦氣模式可簡單、有效地控制常見的多原子干擾；
穩(wěn)定的（低 CeO/Ce）等離子體，可提供出色的基質耐受性；
超高基質進樣 (UHMI) 技術可耐受總溶解固體量 (TDS) 高達 25% 的樣品；
高靈敏度和低背景為超痕量分析物提供了超低的檢測限；
通用性和高性能相結合，支持高級研究和要求苛刻的應用；
靈活的操作模式（母離子/產物離子掃描）支持對反應化學模式進行研究。
Agilent 5800 ICP-OES
Agilent 5800 ICP-OES 是一款專為業(yè)務繁忙的實驗室而設計的 ICP-OES 儀器，旨在幫助實驗室節(jié)約浪費的時間。這款智能 ICP 采用包含內置傳感器、算法和診斷功能的智能化監(jiān)控體系，可以在故障發(fā)生之前發(fā)現問題，從而最大程度延長正常運行時間并最大程度減少需要重新測定的樣品數量。
任何其他電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 (ICP-OES) 均無法讓您對樣品和儀器狀態(tài)有如此深入的了解，因此 5800 ICP-OES 結合強大的 ICP Expert 軟件可助您始終在第一時間獲得準確結果。
特性
使用安捷倫獨有的 IntelliQuant 功能，了解有關樣品的更多信息。IntelliQuant 能夠采集整個波長范圍內的數據，識別光譜干擾并為您提供建議，確保您始終獲得準確結果；
通過傳感器和計數器進行智能儀器狀態(tài)追蹤，并在系統(tǒng)需要維護時為用戶提供指導，助您有效縮短停機時間、降低維護成本；
Neb alert 功能可持續(xù)監(jiān)測霧化器，并在霧化器需要清潔或發(fā)生泄漏時提醒您，從而避免時間浪費和故障排除成本；
ICP Expert 包括數據分析和智能算法功能，使方法開發(fā)更有據可依，并能實現自動化故障排除，這些算法包括擬合背景校正 (FBC)、快速自動曲線擬合技術 (FACT)、元素間干擾校正 (IEC) 和 IntelliQuant；
采用垂直炬管設計，能夠降低清潔頻率、縮短停機時間并減少炬管更換次數；
5800 是市面上體積最小的 ICP-OES 儀器，不僅可以節(jié)省寶貴的工作臺空間，還可以降低使用維護成本。緊湊的光路布局能夠實現快速吹掃，從而減少樣品的測量等待時間。
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第二屆碳基半導體材料與器件產業(yè)發(fā)展論壇展位聯系：
Luna Li （李 蕊)
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