氧化鎵（β-Ga2O3）是超寬禁帶半導(dǎo)體的典型代表，禁帶寬度高達(dá)（~4.8 eV），臨界擊穿場(chǎng)強(qiáng)高達(dá)（~8 MV/cm），是研制高耐壓、大功率和高效節(jié)能半導(dǎo)體器件的理想半導(dǎo)體材料之一，可實(shí)現(xiàn)高擊穿、低功耗和低成本器件芯片三重優(yōu)勢(shì)，在電力傳輸轉(zhuǎn)換、電動(dòng)汽車(chē)、高鐵等領(lǐng)域具有重大應(yīng)用前景。與當(dāng)前產(chǎn)業(yè)界火熱的第三代半導(dǎo)體GaN和SiC相比，Ga2O3功率器件在相同耐壓情況下具有更低的導(dǎo)通電阻，應(yīng)用于電能轉(zhuǎn)換領(lǐng)域?qū)?shí)現(xiàn)更低的功耗和更高的轉(zhuǎn)換效率。因此，近年來(lái)，氧化鎵半導(dǎo)體已成為半導(dǎo)體國(guó)際研究熱點(diǎn)和大國(guó)技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)制高點(diǎn)。

 

2018年以來(lái)，在郝躍院士領(lǐng)導(dǎo)下，西安電子科技大學(xué)通過(guò)自主氧化鎵生長(zhǎng)MOCVD設(shè)備、高質(zhì)量氧化鎵外延材料、高壓器件新結(jié)構(gòu)與新工藝等一系列技術(shù)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了氧化鎵功率二極管和功率晶體管性能的高速提升，如圖1和2，取得了多項(xiàng)里程碑成果，使我國(guó)氧化鎵功率器件研究水平進(jìn)入國(guó)際前列。

 

圖1 西安電子科技大學(xué)氧化鎵功率二極管研究進(jìn)展

圖2 西安電子科技大學(xué)氧化鎵功率晶體管研究進(jìn)展

 

 

 

圖3 西安電子科技大學(xué)氧化鎵功率晶體管研究進(jìn)展

 

由于p型摻雜困難，空穴遷移率低，氧化鎵功率器件中載流子雙極輸運(yùn)及其電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng)始終沒(méi)有實(shí)現(xiàn)，這是制約氧化鎵功率器件性能進(jìn)一步提升的關(guān)鍵瓶頸。為此，本文構(gòu)筑了一種新型p-NiO/n-Ga2O3異質(zhì)型PN結(jié)二極管結(jié)構(gòu)。一方面，通過(guò)將PN異質(zhì)結(jié)、鎂注入終端、高k/低k泊松終端場(chǎng)板等相復(fù)合，利用高溫?zé)嵬嘶鹨种品枪室鈸诫s，使器件峰值電場(chǎng)強(qiáng)度得到極大的削弱；為高耐壓氧化鎵器件發(fā)展開(kāi)拓了新技術(shù)途徑，實(shí)現(xiàn)了8.3 kV的超高耐壓。另一方面，得益于低導(dǎo)帶帶階PN異質(zhì)結(jié)的設(shè)計(jì)，超寬禁帶PN異質(zhì)結(jié)功率二極管實(shí)現(xiàn)了較低的開(kāi)啟，正向偏置時(shí)，空穴勢(shì)壘降低，p區(qū)空穴躍過(guò)PN異質(zhì)結(jié)進(jìn)入n區(qū)，當(dāng)空穴濃度高于電子濃度后，誘導(dǎo)電子濃度上升，從而顯著降低了器件導(dǎo)通電阻，隨著正向電壓的增加微分電阻持續(xù)降低，在氧化鎵器件中實(shí)現(xiàn)了空穴超注入效應(yīng)。研制的氧化鎵功率二極管擁有超高耐壓和極低電阻，功率優(yōu)值P-FOM高達(dá)13.2 GW/cm2，是截止目前氧化鎵半導(dǎo)體器件的最高值。

 

 

 

圖4 (a)器件三維結(jié)構(gòu)示意圖，(b)不通器件結(jié)構(gòu)在8.3 kV耐壓時(shí)仿真所得電場(chǎng)圖，(c)器件擊穿圖，(d)器件正向?qū)▓D，(e)超寬禁帶半導(dǎo)體功率器件導(dǎo)通電阻-耐壓對(duì)比圖。