半導體技術的前幾十年基本上建立在第一代半導體材料（鍺、硅）和第二代半導體材料（傳統(tǒng)的三五族化合物，比如砷化鎵）上。這些材料的禁帶寬度都在 2.3 eV 以下。即使寬的禁帶寬度意味著能承受更高的擊穿電壓、更節(jié)能、所需材料更少，寬禁帶半導體的發(fā)展一直很艱難。直到十九世紀八十年代后期到九十年代，氮化鎵生長和參雜技術的突破帶來了光電器件的革命，隨后也被用于電子器件。碳化硅在電子器件方面的研究則稍早于氮化鎵。以氮化鎵和碳化硅為代表的第三代半導體電子器件在 2000 年以后，特別是 2010 年之后，開始走向成熟，在功率和射頻器件領域產生一系列技術革新：能源基礎設施、可再生能源轉化器、國防雷達和電子戰(zhàn)技術、衛(wèi)星通訊。這里，區(qū)別三代半導體的主要標準是其禁帶寬度。近來隨著 5G 通訊的發(fā)展，基于第三代半導體的射頻器件正大規(guī)模應用于5G 基站。同時，射頻和功率器件將大規(guī)模應用于電動汽車的傳感通信和電源轉化。相比于硅器件，氮化鎵器件的延時可以減少十倍以上并且體積更加緊湊和節(jié)能。在應用需求的催生下，相關器件的頻率和功率也越來越高，熱管理成為制約器件穩(wěn)定性和壽命的一個技術瓶頸。

近年來，各國政府在大力投入第三代半導體的同時，也加大了對比第三代半導體禁帶寬度更大的超寬禁帶半導體的投入。超寬禁帶半導體，比如氧化鎵、氮化鋁、金剛石和氮化硼，也迎來了很多技術突破。其中以氧化鎵為代表的半導體器件在某些方面可能超越氮化鎵和碳化硅器件，有望成為世界上第七大半導體技術，得到了大量的關注。當然，氧化鎵也存在很多的技術挑戰(zhàn)，比如低導熱系數(shù)和 p 型參雜。氧化鎵器件的熱管理將成為其是否能規(guī)?；l(fā)展的一個重要技術指標。

半導體器件中的產熱和熱管理

半導體電子器件都會有焦耳熱的產生，電學特性往往是和熱學和力學相耦合的，所以熱學、電學和力學協(xié)同設計成為未來技術發(fā)展的一個方向。下面以基于氮化鎵的高電子遷移率晶體管（GaN HEMT）為例，討論近節(jié)點的產熱和熱管理。最新的金剛石基底 GaN HEMT 的近節(jié)點熱流密度可以達到太陽表面熱流密度的十倍以上。節(jié)點溫度直接關系到器件的壽命和穩(wěn)定性，進而影響整個設備的可靠性。如圖 1 所示，柵極附近有大的電壓變化，熱點存在于節(jié)點附近。柵極附近產生的熱通過高導熱襯底散熱/均熱。從熱源到熱沉的熱阻有氮化鎵層的熱阻，氮化鎵與襯底的界面熱阻，還有襯底的熱阻。對于特定的器件結構，氮化鎵層的熱阻無法改變。所以研究集中在后兩個熱阻的減小上面。對于 GaN HEMT，在一些重要應用領域，碳化硅襯底的器件（GaN-on-SiC）正在逐步取代硅襯底（GaN-on-Si），一個重要的原因就是考慮到碳化硅的導熱系數(shù)（380 W·m-1·K-1）大于硅的導熱系數(shù)（149 W·m-1·K-1）。

圖1. 基于氮化鎵的高電子遷移率晶體管的示意圖和節(jié)點附近的電場分布。熱點位于柵極附近。

使用比碳化硅導熱系數(shù)更高的金剛石作為襯底來散熱，金剛石襯底的氮化鎵器件（GaN-on-diamond）也發(fā)展了十幾年，其中的難點仍在于金剛石的質量和金剛石和氮化鎵異質結合的界面熱阻。GaN-on-diamond 目前的工藝是在硅襯底上生長氮化鎵器件，然后把硅襯底腐蝕掉。在去掉硅暴露出來的氮化鎵上面生長一層保護層之后，直接在上面利用氣相沉積法生長金剛石。接近氮化鎵界面處的金剛石是納米晶體，其導熱系數(shù)只有數(shù)十W·m-1·K-1，遠小于金剛石單晶體的導熱系數(shù)（>2000 W·m-1·K-1）。氮化鎵上面生長的保護層也增加了氮化鎵和金剛石之間的界面熱阻。

超寬禁帶半導體，比如β相氧化鎵（β-Ga2O3）由于近十年來晶體生長技術的突破，氧化鎵可以從熔體中生長大單晶，有望大規(guī)模供應成本低廉的單晶體。氧化鎵的超寬禁帶使其擁有高擊穿電壓，而且氧化鎵的n型參雜表現(xiàn)優(yōu)異，歐姆和肖特基接觸也可以使用常規(guī)金屬。但是相比于其他的寬禁帶半導體材料，氧化鎵由于其復雜的晶體結構導致其導熱很低（10-27 W·m-1·K-1）而且具有很強的各向異性。散熱問題將會是阻礙大規(guī)模應用的一個短板。所以，要想將器件中的熱量導出，需要使用高導熱系數(shù)的襯底。如圖1所示，柵極附近產生的熱量通過高導熱襯底散熱需要經(jīng)過的熱阻包括氧化鎵本身的熱阻。因為氧化鎵導熱系數(shù)低，自身的熱阻就很大，所以需要減小氧化鎵的厚度來減小熱阻。如果在氧化鎵襯底上面直接生長氧化鎵器件將導致熱積累而出現(xiàn)穩(wěn)定性問題。對于其他的超寬禁帶半導體除了氧化鎵，氮化鋁鎵由于是合金所以導熱系數(shù)也只有幾十W/(m·K)，但是氮化硼、氮化鋁和金剛石的導熱系數(shù)卻很高。

高界面熱導的異質鍵合界面

如圖1所示，器件上面的熱點通過高導熱襯底散熱，需要經(jīng)過三個熱阻：半導體器件自身的熱阻、器件和襯底的熱阻、襯底的熱阻。一旦器件和襯底選定，它們的熱阻就是固定值，而界面熱阻占總熱阻的很大一部分并且可以通過研究來降低，所以下面的討論重點放在界面熱阻上。

為了將高導熱材料結合到熱點附近，近年來作者和合作者們研究了一系列的異質鍵合界面的界面熱導，發(fā)現(xiàn)常溫直接鍵合技術可以將氮化鎵和氧化鎵直接在常溫下鍵合到高導熱襯底上，并且鍵合的界面具有高界面熱導，這為相關器件的散熱提供了除了生長以外的另外一條熱管理技術路線。我們成功把晶圓級別的氮化鎵和碳化硅鍵合在一起，其界面導熱達到了文獻中的最高值（230 MW/(m2·K)）。鍵合的界面不僅去掉了直接生長界面所需的氮化鋁緩沖層的熱阻，也去掉了直接生長界面附近低質量氮化鎵，鍵合的氮化鎵具有高導熱系數(shù)。另外，我們將單晶體金剛石和氮化鎵在常溫下鍵合，得到了較高的界面熱導（92 MW/(m2·K)），計算結果顯示冷卻效果接近金剛石散熱效果的極限值。常溫鍵合還可以最大程度減小高溫操作可能帶來的熱應力問題。相比于在氮化鎵上使用氣相沉積法生長多晶體或者納米晶體金剛石，鍵合法不需要保護層，增大了界面熱導。并且直接把單晶體金剛石鍵合到氮化鎵上面，導熱效率大幅度提升。最近加州大學洛杉磯分校的胡永杰課題組報道了把氮化鎵鍵合到砷化硼上面，并得到了高界面導熱（250 MW/(m2·K)），在某些工況下面散熱效果甚至超過了金剛石。

上面我們提到氧化鎵器件不僅需要高的界面熱導還需要自身很薄，所以作者和合作者們報道了使用離子切割來剝離納米級別的單晶體晶圓級別的氧化鎵薄膜異質鍵合在高導熱襯底上，我們發(fā)現(xiàn)鍵合的界面具有高的界面熱導。同時，最近有模擬研究提出還可以使用雙面散熱，除了通過高導熱襯底，也可以額外通過柵極電極的金屬來均熱，從上方將一部分熱導出。

上面討論到的這些散熱策略有一個關鍵點，那就是涉及到大量的界面?zhèn)鳠?。這包括不同材料之間的界面：金屬和半導體、半導體和半導體界面。不同生長條件下的界面：鍵合、蒸鍍、濺射、分子束外延、有機金屬化學氣相沉積法、氫化物氣相外延等等?？傊?，界面?zhèn)鳠釋τ诎雽w器件的熱管理至關重要。

半導體器件中界面導熱的科學問題

界面?zhèn)鳠岬奈锢砝斫猓航缑鎮(zhèn)鳠嵘婕暗讲煌哪芰枯d體、不同的輸運機制、不同的界面結構細節(jié)。對于界面?zhèn)鳠岬睦斫庖恢笔且粋€難題。關于界面?zhèn)鳠岬睦碚摾斫?，最開始的擴散失配模型（DMM）和聲學失配模型（AMM）假設聲子以一定的概率穿過界面，從而完成熱交換。這兩種模型無法考慮界面處的結構，只是根據(jù)基于組成界面的兩個材料的聲子特性來計算聲子透射率，并且只能計算彈性過程。后來發(fā)展出來的原子格林方程（AGF）可以考慮界面的細節(jié)，但是很難計算非彈性過程對界面導熱的影響，并且計算量特別大。前面提到的模型都是基于朗道模型和聲子透射概率。DMM和AMM是基于聲子氣模型。然而界面處是非對稱結構，而且往往真實的界面會有很多的結構混亂，這與聲子氣模型的完美周期性晶格假設是沖突的。AGF依然使用大塊體材料的聲子來描述界面導熱。所以界面處的熱傳輸理論需要更好的模型和物理理解。近年來，也有一些研究者提出一些改進模型，比如混合失配模型，交叉界面弱耦合模型，最大透射模型，散射調節(jié)聲學失配模型，和非諧波非彈性模型等。

隨著分子動力學應用于界面?zhèn)鳠岬挠嬎?，非彈性過程對界面熱導的貢獻可以被計算出來。更多更豐富的振動模式在界面處被預測出來（界面聲子態(tài)），他們完全和構成界面的材料本身的大塊體聲子特性非常不一樣，并且對界面?zhèn)鳠嵊泻艽蟮闹苯雍烷g接的貢獻。界面聲子態(tài)的理論預測和實驗驗證最近取得了很多的進展。但是分子動力學計算本身是基于經(jīng)典力學，沒有辦法考慮量子效應，對界面熱導的預測在低溫時影響較大。界面?zhèn)鳠岬挠嬎愫褪褂玫脑娱g作用勢能有非常大的關系，所以分子動力學的結果往往只能做定性的分析。迄今為止，一個完整的基于第一性原理的計算界面?zhèn)鳠岬睦碚撃Ｐ瓦€不存在，這是一個巨大的挑戰(zhàn)。

界面?zhèn)鳠岬膶嶒炋剿鳎簩嶒灲Y果發(fā)現(xiàn)，界面的元素混合、結構混亂、界面結合力、化學鍵、晶體方向、粗糙度等等都會影響界面?zhèn)鳠?。但是目前理論計算很少有完整考慮這些因素的模型。這導致實驗測量的界面往往和模型計算的界面是不一樣的。這阻礙了對界面?zhèn)鳠岬睦斫?。不同的材料往往擁有不一樣的晶格常?shù)，這導致界面處的原子并不是完美的排練，在真實的界面中結構缺陷或者位錯往往是不可避免的。所以，對界面的高精度的材料結構表征的重要性被凸顯了出來。這些真實的界面結構可以激發(fā)理論科學家對界面?zhèn)鳠岬睦斫?。再配合大量的實驗?shù)據(jù)，通過機器學習或者大數(shù)據(jù)的方法來尋找一個理解和預測界面?zhèn)鳠岬睦碚撃Ｐ蛯⒊蔀榭赡堋?/p>

目前實驗測量的界面導熱數(shù)據(jù)非常有限，只有幾十個界面被測量過，其中絕大部分都是通過時域熱反射方法測量的。所以未來需要發(fā)展可以快速批量的自動化測量界面導熱的方法。再者，目前的界面熱導測量仍然是基于經(jīng)典傅立葉定律的數(shù)據(jù)分析，未來是否可以發(fā)展出可以測量單個聲子模式的界面熱導的測量方法也是一個值得研究的方向。

原文信息

https://kns.cnki.net/kcms/detail/11.1958.O4.20211027.2033.009.html

（信息來源：物理學報、熱管理材料）