5月29日，中圖半導(dǎo)體增資項(xiàng)目用地成功摘牌。

據(jù)了解，該項(xiàng)目由廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司投資建設(shè)，位于松山湖，總投資10億元，用地面積約60畝，主要建設(shè)新一代LED芯片的大尺寸圖形化藍(lán)寶石襯底、圖形化復(fù)合材料襯底及其他關(guān)鍵材料的生產(chǎn)線，建設(shè)國(guó)內(nèi)第一條8英寸圖形化襯底線，建成一個(gè)先進(jìn)LED用新型襯底技術(shù)及關(guān)鍵材料制造基地，項(xiàng)目涵蓋先進(jìn)LED材料技術(shù)、器件驗(yàn)證、新材料檢測(cè)等技術(shù)研究。

廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司于2013年12月在松山湖成立，是一家面向藍(lán)寶石上氮化鎵（GaN on Sapphire）半導(dǎo)體技術(shù)的專業(yè)襯底材料制造商，主要從事圖形化藍(lán)寶石襯底的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù)。根據(jù)不同的LED芯片應(yīng)用領(lǐng)域及其外延技術(shù)特征進(jìn)行適配的襯底材料開發(fā)，通過圖形化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、不同材料組合應(yīng)用、工藝制程實(shí)現(xiàn)等，為GaN LED芯片提供襯底材料綜合解決方案。