2024年4月8-11日，一年一度化合物半導(dǎo)體行業(yè)盛會(huì)——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（簡稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會(huì)展中心舉辦。張家港安儲(chǔ)科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會(huì)，誠邀業(yè)界同仁蒞臨參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會(huì)由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實(shí)驗(yàn)室共同主辦，以“聚勢(shì)賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導(dǎo)體制造技術(shù)專家、行業(yè)領(lǐng)袖和創(chuàng)新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術(shù)與商貿(mào)交流”的形式，為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準(zhǔn)對(duì)接平臺(tái)，助力企業(yè)高效、強(qiáng)力拓展目標(biāo)客戶資源，加速驅(qū)動(dòng)中國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級(jí)。
CSE作為2024年首場(chǎng)國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)得到了多方力量的大力支持，三大主題展區(qū)，六大領(lǐng)域，將集中展示各鏈條關(guān)鍵環(huán)節(jié)的新技術(shù)、新產(chǎn)品、新服務(wù)，將打造化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的標(biāo)桿性展會(huì)。助力打造全球化合物半導(dǎo)體平臺(tái)、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的燈塔級(jí)盛會(huì)，集中展示化合物半導(dǎo)體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品，搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術(shù)的首選平臺(tái)，支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設(shè)具有全球影響力的萬億級(jí)光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。
張家港安儲(chǔ)科技有限公司是由在國際知名電子材料企業(yè)多年研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的博士和專業(yè)人才所創(chuàng)立，專注于瞄準(zhǔn)世界先進(jìn)水平的先進(jìn)電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。公司已經(jīng)獲得姑蘇領(lǐng)軍和張家港重點(diǎn)領(lǐng)軍創(chuàng)業(yè)企業(yè)等榮譽(yù)、2023年獲評(píng)江蘇省民營科技企業(yè)稱號(hào)并通過江蘇省高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定。公司主營產(chǎn)品：配方型功能電子化學(xué)品(主要有拋光液、研磨液、清洗液等）以及電子特氣安全存儲(chǔ)負(fù)壓鋼瓶所需的吸附材料。產(chǎn)品覆蓋130到5納米制程，適用于銅，鈷，鎢以及氧化硅，硅襯底以及碳化硅襯底表面。公司擁有核心技術(shù)，產(chǎn)品現(xiàn)已經(jīng)申請(qǐng)發(fā)明專利8項(xiàng)、授權(quán)1項(xiàng)，實(shí)用新型12項(xiàng)、授權(quán)10項(xiàng)，PCT3項(xiàng)。公司已經(jīng)獲得ISO9001質(zhì)量管理體系，ISO14001環(huán)境管理體系、 ISO45001職業(yè)健康管理體系認(rèn)證。
產(chǎn)品介紹
碳化硅襯底拋光清洗方案
碳化硅襯底拋光液
碳化硅襯底由于硬度高，脆性大等特點(diǎn)，給拋光帶來了極大的難度。安儲(chǔ)科技ACTL-WS系列拋光液是一種高效的碳化硅襯底表面拋光產(chǎn)品，在具有較高的材料去除率的同時(shí)可獲得低表面粗糙度，低缺陷的晶圓表面。而且拋光液可以循環(huán)使用， 降低了客戶的使用成本。
碳化硅襯底拋光后晶圓清洗液
傳統(tǒng)的碳化硅晶圓拋光后清洗一般都采用RCA工藝清洗，清洗流程長，工藝要求高。安儲(chǔ)科技WK系列清洗液是專為碳化硅CMP拋光后有效清洗晶圓表面而設(shè)計(jì)的配方類清洗液，使用一步清洗，縮減了清洗工藝，清洗效果好，能有效的去除晶圓表面有機(jī)物以及顆粒等污染物。
碳化硅襯底拋光后機(jī)臺(tái)拋光墊清洗液
碳化硅襯底拋光液因使用高錳酸鉀等氧化劑，對(duì)機(jī)臺(tái)以及拋光墊會(huì)有一定腐蝕性， 安儲(chǔ)科技開發(fā)的PK系列研磨后機(jī)臺(tái)研磨墊清洗液可以有效的清洗拋光后殘留物，清洗性能優(yōu)異，清洗時(shí)間短，并可稀釋使用，降低客戶成本。
拋光后清洗液PCMP
半導(dǎo)體制程中化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）后表面易產(chǎn)生研磨粒子，有機(jī)物，金屬離子等缺陷。需要通過特殊的功能性化學(xué)清洗減少缺陷，提高良率，這是芯片生產(chǎn)中必須的步驟。
安儲(chǔ)科技開發(fā)了系列PCMP拋光后清洗， 產(chǎn)品覆蓋130nm至5nm制程， 適用于不同材料拋光后的清洗， 比如銅， 鈷， 鎢以及氧化硅表面等。
銅蝕刻液
安儲(chǔ)科技開發(fā)的銅蝕刻液不含氟離子，環(huán)保安全，可精確控制對(duì)銅的蝕刻速率以及刻蝕角度，沒有倒角，并且無殘?jiān)鼩埩?，產(chǎn)品的Bath life長，在較高銅離子濃度下仍能保持優(yōu)異的蝕刻性能。
光刻膠剝離液PR Stripper
半導(dǎo)體芯片，LCD， LED， 平板顯示中用于形成特定圖案的光阻劑必須完全清除干凈同時(shí)對(duì)其他接觸材料沒有損傷。以有機(jī)溶劑為主的剝離液在半導(dǎo)體中長期使用。對(duì)其他接觸材料基本沒有損傷， 但對(duì)于較厚的光阻清除效果不是很理想。由于半導(dǎo)體技術(shù)和光阻材料的發(fā)展，目前商用的配方型含有機(jī)溶劑的剝離液的清除效果有待提高并且價(jià)格較高。
安儲(chǔ)科技高效低成本的配方型光阻剝離液能夠有效的清除各種光刻膠，同時(shí)不蝕刻或者侵蝕其他暴露的材料，不僅僅用于先進(jìn)半導(dǎo)體芯片中而且也用于LCD， LED， 平板顯示制程中。
電子特氣負(fù)壓存儲(chǔ)鋼瓶
安儲(chǔ)科技開發(fā)的電子特氣負(fù)壓存儲(chǔ)鋼瓶內(nèi)裝多孔材料，具有高比表面積，對(duì)磷烷(PH3)和砷烷(AsH3)三氟化硼(BF3)，四氟化鍺(GeF4)等電子特氣有著很高的吸附能力，儲(chǔ)存穩(wěn)定安全，不會(huì)影響氣體純度，釋放量高?？梢杂迷诎雽?dǎo)體離子注入等設(shè)備工藝。
客制化服務(wù)
安儲(chǔ)科技可以為客戶定制開發(fā)特殊應(yīng)用拋光液以及清洗液，蝕刻液，剝離液等配方類功能電子化學(xué)品。安儲(chǔ)科技硬件設(shè)施:
郵箱/Email：actl@anchutech.com
服務(wù)熱線：0512-56307796
公司網(wǎng)站: www.anchutech.com
公司地址: 張家港保稅區(qū)新興產(chǎn)業(yè)育成中心A幢525室
值此之際，我們誠邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會(huì)，蒞臨展位現(xiàn)場(chǎng)參觀交流、洽談合作。
關(guān)于JFSC&CSE 2024
