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清華大學(xué)功率半導(dǎo)體用氮化硅基板燒結(jié)裝備研制項(xiàng)目簽約湖南企業(yè)

日期:2024-07-22 閱讀:596
核心提示:清華大學(xué)謝志鵬教授團(tuán)隊(duì)與湖南維尚科技有限公司簽訂“功率半導(dǎo)體用氮化硅基板燒結(jié)裝備研制”項(xiàng)目合作協(xié)議。

 據(jù)株洲日?qǐng)?bào)消息,7月17日,湖南省高??萍汲晒D(zhuǎn)化工作推進(jìn)大會(huì)暨“雙高”對(duì)接活動(dòng)在株洲舉行。會(huì)上舉行了全省“雙高”對(duì)接項(xiàng)目簽約儀式,清華大學(xué)謝志鵬教授團(tuán)隊(duì)與湖南維尚科技有限公司簽訂“功率半導(dǎo)體用氮化硅基板燒結(jié)裝備研制”項(xiàng)目合作協(xié)議。

近年來(lái),電子電力器件朝大功率、高頻化、高密度、集成化等方向發(fā)展,對(duì)器件中陶瓷散熱基板提出了更高要求。氮化硅陶瓷的理論熱導(dǎo)率可達(dá)到 200 W/(m·K)以上,而其熱膨脹系數(shù)與芯片的熱膨脹系數(shù)相差無(wú)幾。大部分陶瓷材料研究者和產(chǎn)業(yè)界相關(guān)研發(fā)人員認(rèn)為氮化硅陶瓷基板是大規(guī)?;虺笠?guī)模集成電路封裝基板材料的優(yōu)先選擇。

燒結(jié)工藝是氮化硅陶瓷基板生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)之一,氮化硅基板燒結(jié)受到溫度、氣氛、氣壓、溫度及氣氛均勻性等的綜合影響,過(guò)程極其復(fù)雜,極易出現(xiàn)外觀均勻性、尺寸均勻性變差、成品率降低等問(wèn)題。需要系統(tǒng)開(kāi)展燒結(jié)工藝研究,針對(duì)國(guó)產(chǎn)原料及相應(yīng)配方制定與之匹配的燒結(jié)工藝,燒結(jié)設(shè)備。

此次項(xiàng)目合作開(kāi)展功率半導(dǎo)體用氮化硅基板燒結(jié)裝備研制與先進(jìn)科技成果轉(zhuǎn)化。謝志鵬教授在會(huì)上接受采訪時(shí)提到,此次項(xiàng)目落地后,將會(huì)解決關(guān)鍵制品受制于人的局面。此外,清華大學(xué)材料學(xué)院與萬(wàn)融科技、608所等株洲的企業(yè)院所,建立了密切的合作關(guān)系,部分項(xiàng)目也是被株洲推薦為湖南省“揭榜掛帥”重點(diǎn)項(xiàng)目,以政策為牽引,加速項(xiàng)目落地轉(zhuǎn)化的進(jìn)度。

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