據(jù)無(wú)錫高新區(qū)在線消息，7月25日，韓國(guó)吉佳藍(lán)公司與無(wú)錫市簽署合作協(xié)議，在無(wú)錫高新區(qū)落戶中國(guó)總部項(xiàng)目，將在無(wú)錫建設(shè)半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備研發(fā)制造基地。吉佳藍(lán)是韓國(guó)科斯達(dá)克上市企業(yè)，主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體刻蝕機(jī)、LED元件刻蝕機(jī)、納米壓印光刻設(shè)備等，其中LED刻蝕設(shè)備出貨量多年來(lái)在全球市場(chǎng)排名前列。

此次吉佳藍(lán)與無(wú)錫高新區(qū)、無(wú)錫產(chǎn)業(yè)集團(tuán)簽約合作在錫落戶中國(guó)總部項(xiàng)目，將建設(shè)刻蝕設(shè)備裝配生產(chǎn)線和設(shè)備產(chǎn)品驗(yàn)證線，同時(shí)計(jì)劃引入納米壓印光刻設(shè)備生產(chǎn)。無(wú)錫市市長(zhǎng)趙建軍表示，期待吉佳藍(lán)加快建設(shè)中國(guó)總部項(xiàng)目，推動(dòng)盡早發(fā)揮帶動(dòng)效應(yīng)，促進(jìn)半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈本地化發(fā)展，同時(shí)與無(wú)錫加強(qiáng)企業(yè)、配套、資本及人才的對(duì)接合作，加速落地更多產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)，在錫打造集成電路產(chǎn)業(yè)優(yōu)質(zhì)生態(tài)圈。無(wú)錫將用更貼心的政務(wù)服務(wù)、更一流的營(yíng)商環(huán)境，為吉佳藍(lán)在錫發(fā)展保駕護(hù)航。

同時(shí)近日，無(wú)錫市工業(yè)和信息化局公示了2024年無(wú)錫市擬認(rèn)定企業(yè)技術(shù)中心名單，其中含集成電路企業(yè)無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司、無(wú)錫迪思微電子有限公司。據(jù)悉，企業(yè)技術(shù)中心是指企業(yè)設(shè)立的技術(shù)研發(fā)與創(chuàng)新機(jī)構(gòu)，負(fù)責(zé)制定企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新規(guī)劃、開(kāi)展產(chǎn)業(yè)技術(shù)研發(fā)、創(chuàng)造運(yùn)用知識(shí)產(chǎn)權(quán)、建立技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)體系凝聚培養(yǎng)創(chuàng)新人才、推進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新全過(guò)程實(shí)施等工作，是企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新體系的核心和主要技術(shù)依托。

無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司

尚積半導(dǎo)體是一家專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)自研設(shè)備的廠商，主營(yíng)設(shè)備包括金屬濺射沉積(PVD)，加強(qiáng)型等離子化學(xué)氣相沉積(PECVD)，等離子干法刻蝕(ETCH)三個(gè)領(lǐng)域，服務(wù)于全球的功率器件，微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝、化合物半導(dǎo)體、射頻、集成電路客戶，設(shè)備具備優(yōu)異的重復(fù)性和穩(wěn)定性、故障率低、使用壽命長(zhǎng)、操作維修簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

國(guó)家集成電路設(shè)計(jì)無(wú)錫產(chǎn)業(yè)化基地消息顯示，尚積半導(dǎo)體是國(guó)內(nèi)唯一的氧化釩(VOx)薄膜沉積設(shè)備制造商，國(guó)內(nèi)唯一的RF領(lǐng)域薄膜電阻關(guān)鍵工藝如氮化鉭(TaN)等薄膜設(shè)備制造商，國(guó)內(nèi)唯一的TC-SAW Si02薄膜沉積設(shè)備制造商，國(guó)內(nèi)唯一的高真空吸氣薄膜(Getter)沉積設(shè)備制造商。性能已超越進(jìn)口設(shè)備，在客戶端已經(jīng)量產(chǎn)，市占率領(lǐng)先。

無(wú)錫迪思微電子有限公司

迪思微為原無(wú)錫華潤(rùn)微電子有限公司掩模工廠，是國(guó)內(nèi)最早從事光掩模制造的專業(yè)企業(yè)，深耕光掩模領(lǐng)域35年，是國(guó)家級(jí)專精特新“小巨人”企業(yè)、江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)瞪羚企業(yè)、江蘇省光掩模工程技術(shù)研究中心。

該公司擁有國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的光掩模制造設(shè)備、技術(shù)工藝、質(zhì)量控制和信息安全保護(hù)措施，業(yè)務(wù)覆蓋國(guó)內(nèi)主流12英寸、8英寸、6英寸線。

來(lái)源：無(wú)錫高新區(qū)