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Nature | 康奈爾大學(xué):光電功能器件最新突破

日期:2024-10-11 閱讀:433
核心提示:康奈爾大學(xué)Huili Grace Xing和Debdeep Jena團(tuán)隊(duì)在Nature期刊上發(fā)表了題為“Using both faces of polar semiconductor wafers for functional devices”的最新論文。研究人員提出了一種新型的雙電子集成方案,該方案利用GaN基材的N極面和金屬極面分別制作HEMT和LED。這一方法避免了需要選擇性去除或再生長(zhǎng)外延層的復(fù)雜過(guò)程,從而降低了對(duì)材料界面質(zhì)量的要求,顯著提高了器件的性能。

 

研究背景

隨著電子和光電子技術(shù)的快速發(fā)展,集成化和高效能的器件結(jié)構(gòu)引起了廣泛關(guān)注。近年來(lái),雙電子(dualtronic)結(jié)構(gòu)的提出為集成化的電子與光電設(shè)備提供了新的可能性。這種結(jié)構(gòu)通過(guò)將高電子遷移率晶體管(HEMT)與發(fā)光二極管(LED)集成在同一基片上,實(shí)現(xiàn)了在一個(gè)平臺(tái)上同時(shí)處理電信號(hào)和光信號(hào)的功能。然而,傳統(tǒng)的器件集成方法常常面臨著層間生長(zhǎng)界面質(zhì)量差、泄漏路徑增多以及光發(fā)射效率降低等問(wèn)題,制約了其應(yīng)用的發(fā)展。 

研究?jī)?nèi)容

為了解決這些問(wèn)題,康奈爾大學(xué)Huili Grace Xing和Debdeep Jena團(tuán)隊(duì)在Nature期刊上發(fā)表了題為“Using both faces of polar semiconductor wafers for functional devices”的最新論文。研究人員提出了一種新型的雙電子集成方案,該方案利用GaN基材的N極面和金屬極面分別制作HEMT和LED。這一方法避免了需要選擇性去除或再生長(zhǎng)外延層的復(fù)雜過(guò)程,從而降低了對(duì)材料界面質(zhì)量的要求,顯著提高了器件的性能。具體而言,該研究通過(guò)精確控制器件結(jié)構(gòu)中的電流和光發(fā)射,實(shí)現(xiàn)了HEMT-LED的高效開關(guān),展示了其在光電集成電路中的潛力。 

本研究解決了傳統(tǒng)集成方法帶來(lái)的性能限制問(wèn)題,采用單片集成技術(shù),實(shí)現(xiàn)了在同一GaN基材上同時(shí)具備光電子和電子功能的器件。通過(guò)對(duì)基片的雙極性利用,研究人員能夠?qū)崿F(xiàn)高效的電子信號(hào)和光信號(hào)的結(jié)合,這種創(chuàng)新的器件結(jié)構(gòu)不僅降低了元件數(shù)量,節(jié)省了材料和成本,還為未來(lái)微型LED和透明薄膜晶體管的結(jié)合開辟了新的道路。此外,基于雙電子結(jié)構(gòu)的器件可以拓展到更廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景,例如新型的射頻放大器和光電模塊,推動(dòng)更高集成度和更小體積的通信系統(tǒng)的發(fā)展。 

圖文解讀

1. 實(shí)驗(yàn)首次實(shí)現(xiàn)了單片集成的高電子遷移率晶體管(HEMT)與發(fā)光二極管(LED),展示了雙電子光子器件的可行性。 

2. 實(shí)驗(yàn)通過(guò)對(duì)GaN基底的雙極性結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化,成功實(shí)現(xiàn)了HEMT的反向柵極效應(yīng),顯著提高了器件的電流控制能力。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,當(dāng)頂柵電極浮空時(shí),LED的陰極電壓能以指數(shù)方式調(diào)控HEMT的漏電流,提供了新的功能。 

3. 研究表明,該雙電子光子結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)光電設(shè)備和射頻電子設(shè)備的集成,減少了所需組件數(shù)量,從而降低了成本和面積,提升了整體性能。 

4.利用雙極性GaN材料的特性,本文展示了在同一晶片上集成不同極性器件的潛力,為未來(lái)光電集成電路提供了新思路。

 

圖1 | HEMT-LED的等離子體輔助分子束外延生長(zhǎng)示意圖。

 

圖2 | 雙電子外延異質(zhì)結(jié)構(gòu)的STEM成像。

 

圖3 | 雙電子器件的制作和成像。

 

圖4 | HEMTs和LEDs獨(dú)立工作時(shí)的器件特性。

 

圖5 | HEMT-LED單片開關(guān)測(cè)量。 

結(jié)論展望

本文的研究揭示了雙電子技術(shù)(dualtronics)的潛力,通過(guò)將HEMT和LED集成在同一塊GaN基片上,推動(dòng)了新型光電器件的發(fā)展。這種單片集成不僅提高了器件的功能性,還減少了組件數(shù)量,優(yōu)化了材料利用,具有顯著的成本效益。研究中指出,利用N極和金屬極的極性差異,可以在同一基片上實(shí)現(xiàn)高效的光電和電子功能,拓展了微型LED與透明薄膜晶體管的結(jié)合可能。這一方法避免了傳統(tǒng)器件集成中常見(jiàn)的層間剝離和再生長(zhǎng)所帶來(lái)的損害,提供了更為理想的生長(zhǎng)界面。 

此外,雙電子結(jié)構(gòu)能夠同時(shí)支持高效的光發(fā)射和電子運(yùn)算,為通信系統(tǒng)中發(fā)射與接收模塊的緊湊集成奠定了基礎(chǔ)。未來(lái),這種集成技術(shù)有望在超寬帶隙極性半導(dǎo)體中實(shí)現(xiàn)聲波、微波和光波的協(xié)同應(yīng)用,推動(dòng)新型射頻和功率電子器件的發(fā)展。這些研究成果不僅為光電子領(lǐng)域開辟了新的研究方向,也為相關(guān)應(yīng)用提供了理論支持,展現(xiàn)出廣闊的科技前景。 

該工作發(fā)表在Nature上 

文章鏈接:https://doi.org/10.1038/s41586-024-07983-z 

(來(lái)源:低維材料前沿

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