近日，光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

該產(chǎn)品對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，通過驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心團(tuán)隊創(chuàng)立。團(tuán)隊立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā)，在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余載。

企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國皇家化學(xué)會會員、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示：“以原材料的開發(fā)為起點(diǎn)，最終獲得具有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個開始，我們團(tuán)隊還會發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜。”

太紫微核心研發(fā)團(tuán)隊成員（前排左一為朱明強(qiáng)教授）

太紫微公司致力于半導(dǎo)體專用高端電子化學(xué)品材料的開發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導(dǎo)體制造開辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù)，同時為材料的分析與驗(yàn)證提供最全面的手段。

“無論是從國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望未來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻領(lǐng)域還會有很多新技術(shù)、新企業(yè)破繭成蝶，但擁有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問表示。