國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，深圳晶源信息技術(shù)有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種光刻膠模型優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、裝置和存儲(chǔ)介質(zhì)”的專利，公開(kāi)號(hào) CN 119180203 A，申請(qǐng)日期為2024年9月。

專利摘要顯示，本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻膠模型優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、裝置和存儲(chǔ)介質(zhì)，提供初始光刻膠模型，獲取初始光刻膠模型的多個(gè)待優(yōu)化初始參數(shù)；提供遺傳算法模型對(duì)全部待優(yōu)化初始參數(shù)進(jìn)行迭代求解獲得優(yōu)化參數(shù)；提供適應(yīng)度函數(shù)組，適應(yīng)度函數(shù)組包括最小化誤差函數(shù)，還包括允許誤差損失函數(shù)、網(wǎng)格損失函數(shù)和系數(shù)損失函數(shù)中的至少一種；在迭代過(guò)程中，采用適應(yīng)度函數(shù)組對(duì)全部?jī)?yōu)化參數(shù)進(jìn)行評(píng)估獲得每一優(yōu)化參數(shù)的適應(yīng)度值，在執(zhí)行對(duì)優(yōu)化參數(shù)的下一輪迭代時(shí)，以適應(yīng)度值作為對(duì)應(yīng)優(yōu)化參數(shù)的優(yōu)化權(quán)重；滿足預(yù)設(shè)條件時(shí)，停止迭代并輸出遺傳算法模型最終求得的目標(biāo)參數(shù)本發(fā)明提供的方法能夠解決模型中存在的過(guò)擬合現(xiàn)象和一致性不佳的技術(shù)問(wèn)題。