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持續(xù)加碼碳化硅領(lǐng)域,露笑科技62臺新長晶爐即將投入使用

日期:2022-01-11 閱讀:466
核心提示:近日,露笑科技接受多家機構(gòu)調(diào)研。在本次機構(gòu)調(diào)研活動中,露笑科技介紹了包括公司6英寸導電型碳化硅襯底產(chǎn)能布局等一系列投資者關(guān)注的項目進展情況。
 近日,露笑科技接受多家機構(gòu)調(diào)研。在本次機構(gòu)調(diào)研活動中,露笑科技介紹了包括公司6英寸導電型碳化硅襯底產(chǎn)能布局等一系列投資者關(guān)注的項目進展情況。
 
6英寸碳化硅襯底晶片已形成銷售
 
露笑科技表示,公司現(xiàn)有50臺6英寸碳化硅長晶爐正常生產(chǎn)中,2022年1月15日前將有62臺新長晶爐投入使用,2022年5月底前將完成另外112臺長晶爐的安裝調(diào)試,2022年6月底前將有224臺長晶爐投入生產(chǎn)。
 
而在此前一周的調(diào)研中,露笑科技曾表示,公司的碳化硅長晶爐全部由公司自行研發(fā)生產(chǎn)。
 
露笑科技稱,6英寸導電型碳化硅襯底下游終端應用場景包括新能源汽車、光伏逆變器。以新能源車為例,新能源車有13處零部件需要使用碳化硅器件。碳化硅基器件主要有肖特基二極管(SBD),金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)。SBD的國產(chǎn)替代正在進行中,公司6英寸導電型碳化硅襯底已通過外延廠商和下游終端客戶認證。
 
針對下游MOS和SBD應用場景,上游碳化硅襯底端幾乎沒有區(qū)別,只有極少幾個參數(shù),差別主要在外延層結(jié)構(gòu)。公司碳化硅襯底出廠時MOS和SBD兩個應用場景是通用的。
 
據(jù)露笑科技介紹,公司6英寸碳化硅襯底晶片已形成銷售,目前主要針對下游SBD應用場景。國內(nèi)針對MOS應用的6英寸導電型碳化硅襯底片2022Q2之前都會是送樣認證階段。未來碳化硅成本下降后可實現(xiàn)對硅基功率器件的廣泛替代。
 
露笑科技稱,近期Wolfspeed的首席財務官宣稱在2024年8寸片才可達到盈虧平衡點。我司也有研發(fā)8寸片計劃安排,目前所有設(shè)備都是6-8寸片兼容。切磨拋設(shè)備布局與Wolfspeed同步。
 
2022年研發(fā)8英寸晶體生長
 
談及碳化硅項目近況和未來發(fā)展布局時,露笑科技相關(guān)負責人表示,在碳化硅領(lǐng)域,露笑科技2021年在二級市場上創(chuàng)下了歷史新高,而2022年的美好愿景是為成為“第一家量產(chǎn)的導電型碳化硅襯底片”的上市公司而努力。
 
2021年的12月13日,露笑科技發(fā)布公告稱,擬對合肥露笑半導體進行增資6000萬元。公開資料顯示合肥露笑半導體坐落合肥長豐縣,露笑科技聯(lián)手合肥地方國資,擬分三期投資合計100億元,分階段實現(xiàn)6英寸及8英寸導電型碳化硅襯底晶片及外延晶片大規(guī)模量產(chǎn)。
 
在此之前,露笑科技已進行了三輪注資,累計注資3.2億元。本次增資后公司持有合肥露笑半導體股權(quán)由50.98%上升至55.65%。
 
而在2021年11月24日,露笑科技發(fā)布非公開發(fā)行股票預案,擬募資29.4億元投入碳化硅項目。
 
據(jù)了解,目前碳化硅襯底主要分為半絕緣片和導電片。其中,半絕緣片主要應用在射頻,國內(nèi)廠商主要是以山東天岳為主;導電片主要用在功率器件上,露笑科技目前走在前沿。
 
在碳化硅產(chǎn)業(yè)方面,露笑科技在發(fā)展之初就定下規(guī)劃:在2018年1月~2020年11月完成4/6英寸碳化硅晶體生長爐研制與銷售、6英寸導電型碳化硅襯底中試線;2020年12月~2021年12月,5萬片6英寸導電型碳化硅襯底片生產(chǎn)線。對比當下發(fā)展現(xiàn)狀,露笑科技既定目標基本實現(xiàn)。
 
露笑科技表示,公司預期2022年1月~2022年12月,完成10萬片6英寸導電型碳化硅襯底片生產(chǎn)線、外延片中試線、8英寸晶體生長研發(fā);2023年~2024年,實現(xiàn)25萬片6英寸導電型碳化硅襯底生產(chǎn)線、10萬片6英寸外延片生產(chǎn)線、8英寸碳化硅晶體中試線。
 
總體而言,目前碳化硅行業(yè)景氣上升,我國企業(yè)紛紛加碼,助推國產(chǎn)替代的提早到來。
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