當(dāng)?shù)貢r(shí)間1月19日，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）官網(wǎng)顯示，英特爾訂購(gòu)了一款最先進(jìn)的芯片制造機(jī)（光刻機(jī)）。這款光刻機(jī)目前仍處于設(shè)計(jì)階段，預(yù)計(jì)數(shù)年后才會(huì)交付。
阿斯麥稱，現(xiàn)已收到5臺(tái)下一代光刻機(jī)的訂單，這5臺(tái)機(jī)器被稱為“High NA”EUV，將采用不同的鏡頭系統(tǒng)，數(shù)值孔徑（NA）更大，每臺(tái)成本約為3億美元。第一批原型將于2023年發(fā)貨，預(yù)計(jì)要到2025年才能用于批量生產(chǎn)。
此前，阿斯麥發(fā)言人曾透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時(shí)密度增加2.9倍。未來(lái)比3nm更先進(jìn)的工藝，將極度依賴高NA EUV光刻機(jī)。
阿斯麥最先進(jìn)的商用機(jī)器被稱為“EUV光刻系統(tǒng)”，使用“極紫外光”（EUV）光波來(lái)繪制計(jì)算機(jī)芯片的電路的，其大小相當(dāng)于一輛公交車，每臺(tái)成本約為1.5億美元。一家先進(jìn)芯片工廠通常需要9~18臺(tái)這樣的設(shè)備。因此，光刻機(jī)是芯片制造商最大的資本開支之一。
當(dāng)前，阿斯麥?zhǔn)谴祟悪C(jī)器的唯一制造商，其EUV客戶包括全球最大的芯片制造商，如臺(tái)積電、三星和英特爾等。
“英特爾的重點(diǎn)是保持在半導(dǎo)體光刻技術(shù)的前沿，在過去一年里，我們一直在建設(shè)我們的EUV專業(yè)知識(shí)和能力。”英特爾執(zhí)行副總裁和技術(shù)開發(fā)總經(jīng)理Ann Kelleher說。
