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重磅發(fā)布 | 新一代SiC晶體生長爐,突破行業(yè)核心需求

日期:2022-05-02 來源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:981
核心提示:恒普科技推出SiC感應(yīng)晶體生長爐的新一代技術(shù)平臺,突破SiC行業(yè)晶體長不快、長不厚,長不大的三大缺點,解決行業(yè)核心需求。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)消息:2022年4月,恒普科技推出SiC感應(yīng)晶體生長爐的新一代技術(shù)平臺,突破SiC行業(yè)晶體長不快、長不厚,長不大的三大缺點,解決行業(yè)核心需求。
重磅發(fā)布 | 新一代SiC晶體生長爐,突破行業(yè)核心需求
隨著電動汽車的碳化硅車型的陸續(xù)密集推出,帶動當下SiC器件需求的井噴。在未來一段時間內(nèi)SiC襯底的供應(yīng)依然無法滿足市場的需求。
 
而當下國內(nèi)主流的SiC晶體生長速度在0.1~0.2mm/h,晶體厚度在15~25mm,晶體尺寸從4英寸全面向6英寸切換。國際上主流的SiC晶體生長的速度在0.2~0.3mm/h,晶體的厚度30~40mm,晶體尺寸由6英寸轉(zhuǎn)向8英寸。
 
無論是技術(shù)追趕,還是市場需求,在晶體質(zhì)量(缺陷等)保證的前提下,把SiC晶體長快、長厚、長大,都是行業(yè)急迫需要解決的核心需求。
 
在這個背景下,恒普科技推出新一代感應(yīng)發(fā)熱技術(shù)平臺,并以新技術(shù)平臺為基礎(chǔ),推出了2款感應(yīng)式SiC晶體生長爐,解決SiC晶體長不快、長不厚、長不大的缺點。
重磅發(fā)布 | 新一代SiC晶體生長爐,突破行業(yè)核心需求
新感應(yīng)晶體生長平臺特點(部分):
 
1、全尺寸
 
●同時推出6英寸、8英寸的2款爐型,滿足行業(yè)晶體尺寸加大的需求。
 
2、無籽晶托或超薄籽晶托
 
●自由熱膨脹,利于應(yīng)力的釋放,減少由應(yīng)力產(chǎn)生的缺陷。
 
●料區(qū)與籽晶區(qū),更靈活的溫度梯度調(diào)節(jié)。
 
3、固定式水平線圈
 
●無需調(diào)節(jié)線圈的軸向移動,減少工藝變量,提高工藝穩(wěn)定性。
 
●對籽晶區(qū)的溫場做到更精細的調(diào)整,使溫度更均衡。
 
4、新熱場
 
●裝入更多原料,且利用率高。
 
●料區(qū)溫度分布對長晶影響的敏感度下降。
 
●增加了蒸發(fā)面積,可在超低壓力下生長。
 
●傳質(zhì)效率提高且穩(wěn)定,降低再結(jié)晶影響(避免二次傳質(zhì))。
 
●減少邊緣缺陷的擴徑技術(shù)。
 
生長后期,降低碳包裹物的影響。
 
5、先進技術(shù)
 
新爐型標準配置了,溫度閉環(huán)控制與高精度壓力控制等先進技術(shù)。
 
a.溫度閉環(huán)控制
 
SiC晶體在2000℃以上的高溫下生長,對溫度的穩(wěn)定性要求極高,但由于SiC粉料揮發(fā)等原因,無法做到溫度控制,而是采用功率控制(或溫度控制+功率控制組合),恒普科技的新技術(shù)就解決了這個痛點。
 
b.高精度壓力控制
 
SiC晶體生長爐在晶體生長時,通常壓力控制的波動在±3Pa,恒普科技的新技術(shù)可以將壓力控制在±0.3Pa,提高了一個數(shù)量級。
重磅發(fā)布 | 新一代SiC晶體生長爐,突破行業(yè)核心需求
寧波恒普真空科技股份有限公司 是一家以材料研究為基礎(chǔ),以高溫?zé)釄霏h(huán)境控制為技術(shù)核心的金屬注射成形(MIM)領(lǐng)域和寬禁帶半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備供應(yīng)商,主要從事金屬注射成形(MIM)脫脂燒結(jié)爐、碳化硅晶體生長爐、碳化硅同質(zhì)外延設(shè)備等熱工裝備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。
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