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國際領(lǐng)先水平!突破SiC晶體長厚的關(guān)鍵材料

日期:2022-12-12 來源:半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:348
核心提示:恒普科技突破性的解決了多孔石墨的技術(shù),加速推動“一次傳質(zhì)”新工藝的使用,使行業(yè)能成本可循環(huán)、快速、靈活的與國際技術(shù)同步發(fā)展,解決關(guān)鍵材料“進口”依賴,并達到國際領(lǐng)先水平。

半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)訊:“一次傳質(zhì)”工藝是采用一次傳質(zhì)的新熱場,傳質(zhì)效率提高且基本恒定,降低再結(jié)晶影響(避免二次傳質(zhì)),有效降低了微管或其它關(guān)聯(lián)晶體缺陷。平衡氣相組分,隔斷微量雜質(zhì),調(diào)節(jié)局部溫度,減少碳包裹等物理性顆粒,在滿足晶體可用的前提下,晶體厚度大幅增加,是解決晶體長厚的核心技術(shù)之一。

恒普科技在2021年,推出的“一次傳質(zhì)”的新工藝,雖然效果突出,但采用筒形多孔石墨用料多,且大孔隙率的多孔石墨需要依賴進口,急劇增加了晶體生長的成本,大大阻礙了"一次傳質(zhì)“新工藝的推廣,使SiC晶體生長技術(shù)無法與國際同步。

為了推動晶體 “長快、長厚,長大”,如何解決多孔石墨的瓶頸是行業(yè)的迫切需求。多孔石墨的孔隙率、孔隙大小、空隙分布、強度、最薄可加工尺寸、蝕刻特性等技術(shù)參數(shù)都極具挑戰(zhàn),與工藝匹配更是難點。

恒普科技突破性的解決了多孔石墨的技術(shù),加速推動“一次傳質(zhì)”新工藝的使用,使行業(yè)能成本可循環(huán)、快速、靈活的與國際技術(shù)同步發(fā)展,解決關(guān)鍵材料“進口”依賴,并達到國際領(lǐng)先水平。

多孔石墨實拍圖:

技術(shù)特點

·孔隙率最高可達65%(國際領(lǐng)先)

·空隙分布均勻;

·批次穩(wěn)定性高;

·強度高,加工性可以達到≤1mm超薄壁圓筒形狀 (國際領(lǐng)先)。

恒普科技 | 零實驗室,致力于材料的基礎(chǔ)研究和創(chuàng)新方向探索。

 

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