據(jù)悉，國內(nèi)權威期刊《激光與光電子學進展》日前發(fā)表由中國科學院上海光學精密機械研究所團隊提交的《100 kHz重復頻率錫液滴靶研究》一文。

 

根據(jù)該文介紹，錫液滴發(fā)生器是激光等離子體型極紫外（LPP-EUV）光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求錫液滴靶具備高重復頻率、小直徑且穩(wěn)定性好的特性。該論文展示了上海光機所EUV光源團隊近來在液滴發(fā)生器方面的研究進展，包括液滴直徑、重復頻率、間距、位置和穩(wěn)定性等。

 

現(xiàn)階段，該所團隊研制的錫液滴發(fā)生器實驗裝置，在100 kHz頻率下噴射的錫液滴直徑~40 μm，間距~230 μm，工作時長接近5h。錫液滴在10 s短時間內(nèi)，豎直和水平方向的位置不穩(wěn)定性分別為2 μm和1 μm左右。

 

不過對比目前商用產(chǎn)品，上述指標仍有較大差距，如2015年ASML產(chǎn)品中采用的液滴靶，可實現(xiàn)液滴直徑為27 μm左右，頻率50 kHz，液滴間距大于1 mm，最大可到3 mm，液滴30 s短時間內(nèi)的位置不穩(wěn)定性~1 μm，連續(xù)工作時長一個月以上，液滴直徑在20 min內(nèi)的不穩(wěn)定性為0.5 μm。

 

該文表示，未來在錫液滴的可用性性能，如液滴直徑、工作時長和長時間的位置穩(wěn)定性還需進一步提升，相關的探測和分析手段也有待完善，以滿足EUV光刻光源對液滴靶的工程需求。