天眼查顯示，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“一種腔室清潔方法及半導(dǎo)體工藝設(shè)備”專利公布，申請公布日為2024年11月29日，申請公布號為CN119050039A。

本申請?zhí)峁┝艘环N腔室清潔方法及半導(dǎo)體工藝設(shè)備，該方法包括在工藝腔室中的靜電卡盤滿足電荷清潔的觸發(fā)條件時獲取擋板的當(dāng)前狀態(tài)，并基于擋板的當(dāng)前狀態(tài)以及工藝腔室的第一目標(biāo)狀態(tài)確定擋板滿足移出條件時控制擋板移出工藝腔室，以在工藝腔室的當(dāng)前狀態(tài)達到第一目標(biāo)狀態(tài)時控制工藝腔室執(zhí)行電荷清潔，電荷清潔用于中和靜電卡盤的殘余電荷，從而能夠自動將擋板移出工藝腔室以及自動執(zhí)行電荷清潔，極大提高了靜電卡盤中殘余電荷的清潔效率，且無需人工參與，降低了殘余電荷清潔過程中的人力成本。同時，通過將擋板移出工藝腔室能夠有效避免擋板對靜電卡盤的殘余電荷清潔效果的影響，保證了對靜電卡盤中的殘余電荷進行自動清潔時的清潔效果。