3月12日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）宣布其等離子體刻蝕設(shè)備反應(yīng)總臺數(shù)全球累計出貨超過5000臺。這包括CCP高能等離子體刻蝕機和ICP低能等離子體刻蝕機、單反應(yīng)臺反應(yīng)器和雙反應(yīng)臺反應(yīng)器共四種構(gòu)型的設(shè)備。等離子體刻蝕機，是光刻機之外，最關(guān)鍵的、也是市場最大的微觀加工設(shè)備。由于微觀器件越做越小和光刻機的波長限制，也由于微觀器件從二維到三維發(fā)展，刻蝕機是半導(dǎo)體設(shè)備過去十年增長最快的市場。這一重要里程碑標(biāo)志著中微公司在等離子體刻蝕設(shè)備領(lǐng)域持續(xù)得到客戶與市場的廣泛認(rèn)可，也彰顯了公司在等離子體刻蝕領(lǐng)域已進(jìn)入國際前列。

中微公司致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細(xì)分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導(dǎo)體和半導(dǎo)體化學(xué)薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備。

中微公司的刻蝕設(shè)備在過去的20年積累了大量的芯片生產(chǎn)線量產(chǎn)數(shù)據(jù)和客戶驗證數(shù)據(jù)，已經(jīng)可以覆蓋絕大多數(shù)的刻蝕應(yīng)用，包括各種高端的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備不斷擴大市場占有率，該公司的CCP高能等離子刻蝕設(shè)備和ICP低能等離子體刻蝕設(shè)備的出貨量近年來都保持高速增長。CCP設(shè)備在線累計裝機量近四年年均增長大于37%，已突破4000個反應(yīng)臺；ICP設(shè)備在線累計裝機量近四年年均增長大于100%，已突破1000個反應(yīng)臺。截至2025年2月底，公司累計已有超過5400個反應(yīng)臺在國內(nèi)外130多條生產(chǎn)線，全面實現(xiàn)了量產(chǎn)和大規(guī)模重復(fù)性銷售。

據(jù)業(yè)績快報顯示，中微公司2024年營業(yè)收入約90.65億元，較2023年增加約28.02億元。該公司在過去13年保持營業(yè)收入年均增長大于35%，近四年營業(yè)收入年均增長大于40%的基礎(chǔ)上，2024年營業(yè)收入又同比增長約44.73%。其中，刻蝕設(shè)備收入約72.77億元，在最近四年收入年均增長超過50%的基礎(chǔ)上，2024年又同比增長約54.73%。

（來源：集微網(wǎng)）