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三安光電發(fā)明設(shè)環(huán)繞式擋板
結(jié)構(gòu)
有效提高LED芯片發(fā)光亮度
評(píng)論 ?
2021-07-14 11:39
海芯微300毫米晶圓生產(chǎn)線項(xiàng)目FAB廠房主體
結(jié)構(gòu)
封頂 總投資100億元
評(píng)論 ?
2021-07-02 10:04
南科大陳銳課題組在鈣鈦礦材料的
結(jié)構(gòu)
自修復(fù)及穩(wěn)定激光輸出取得研究進(jìn)展
評(píng)論 ?
2021-06-01 16:28
三期投資擬80.5億!新微化合物半導(dǎo)體量產(chǎn)線潔凈廠房
結(jié)構(gòu)
封頂
評(píng)論 ?
2021-05-14 10:04
三期投資擬80.5億!新微化合物半導(dǎo)體量產(chǎn)線潔凈廠房
結(jié)構(gòu)
封頂
評(píng)論 ?
2021-05-11 09:33
CFET
結(jié)構(gòu)
晶體管有助于2nm以下制程的新一代半導(dǎo)體技術(shù)
評(píng)論 ?
2021-03-11 11:11
金剛石芯片關(guān)鍵技術(shù)獲得突破:從根本上改變金剛石的能帶
結(jié)構(gòu)
評(píng)論 ?
2021-01-11 16:02
日本豐田汽車公司Kimimori HAMADA:超窄體(UNB)MOSFET和接地窄而深p(GND)MOSFET的4H-SiC MOSFET的新挑戰(zhàn)性
結(jié)構(gòu)
評(píng)論 ?
2020-12-23 15:28
北京大學(xué)尹瑞苑:氮化鎵MIS
結(jié)構(gòu)
界面相關(guān)陷阱態(tài):物性、表征及模型
評(píng)論 ?
2020-12-16 18:17
中科院半導(dǎo)體研究所研究員閆建昌:氮化物深紫外LED研發(fā)方向,從二維材料到納米
結(jié)構(gòu)
評(píng)論 ?
2020-12-08 15:50
Imagination推出首門(mén)RISC-V計(jì)算機(jī)體系
結(jié)構(gòu)
課程
課程
體系結(jié)構(gòu)
項(xiàng)目
支持
計(jì)算機(jī)
大學(xué)
評(píng)論 ?
2020-09-02 09:07
意法半導(dǎo)體推出內(nèi)置機(jī)器學(xué)習(xí)內(nèi)核的高精度測(cè)斜儀
半導(dǎo)體
監(jiān)測(cè)
傳感器
結(jié)構(gòu)
測(cè)量
傾斜角
評(píng)論 ?
2020-08-26 07:56
CCF CTC 2020之云邊協(xié)同賦能未來(lái)計(jì)算體系
結(jié)構(gòu)
設(shè)計(jì)論壇圓滿閉幕
協(xié)同
計(jì)算
主題
邊緣
報(bào)告
題為
評(píng)論 ?
2020-08-25 01:39
Moortec在臺(tái)積電N6制程技術(shù)上面提供芯片內(nèi)傳感
結(jié)構(gòu)
傳感
芯片
積電
制程
技術(shù)
提供
評(píng)論 ?
2020-08-19 08:25
全球首臺(tái):蘇大維格大型紫外3D直寫(xiě)光刻設(shè)備iGrapher3000投入運(yùn)行
光刻
形貌
制備
光電子
器件
結(jié)構(gòu)
評(píng)論 ?
2020-07-28 06:40
全球首臺(tái):蘇大維格大型紫外3D直寫(xiě)光刻設(shè)備iGrapher3000投入運(yùn)行
光刻
形貌
制備
光電子
器件
結(jié)構(gòu)
評(píng)論 ?
2020-07-28 06:40
長(zhǎng)春光機(jī)所等研制出高靈敏度鈣鈦礦單晶-石墨烯復(fù)合垂直
結(jié)構(gòu)
光電探測(cè)器
長(zhǎng)春光機(jī)所
高靈敏度
鈣鈦礦單晶
石墨烯
復(fù)合
垂直結(jié)構(gòu)
光電探測(cè)器
評(píng)論 ?
2020-07-08 09:43
蘋(píng)果公布超薄觸摸顯示技術(shù)專利:可直接減少顯示屏層的
結(jié)構(gòu)
蘋(píng)果
超薄
觸摸顯示
技術(shù)
專利
顯示屏層
評(píng)論 ?
2020-06-28 08:59
意法半導(dǎo)體參考設(shè)計(jì)為
結(jié)構(gòu)
緊湊、經(jīng)濟(jì)劃算的可穿戴設(shè)備提供社交距離監(jiān)測(cè)、接觸溯源和遠(yuǎn)程功能
半導(dǎo)體
設(shè)計(jì)
參考
監(jiān)測(cè)
超低
距離
評(píng)論 ?
2020-06-09 03:23
原子級(jí)工藝實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖形
結(jié)構(gòu)
的要求
刻蝕
原子
沉積
工藝
光刻
周期
評(píng)論 ?
2020-06-02 09:09
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